Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)是一款超多功能的PVD（物理氣相沉積）系統(tǒng)，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業(yè)和學術研究。NL-FLEX可以容納各種類型的基底，包括卷對卷、非平面和粉末涂層。它適用于廣泛的應用領域，包括催化、光子學、能量存儲、傳感器和生命科學。這種模塊化的PVD沉積系統(tǒng)可以與分析工具集成，為您提供定制化的研究解決方案。

主要特點：

·         通過結合納米顆粒和薄膜生成復雜材料。

·         使用NL-UHV技術生產無烴納米顆粒。

·         空間寬敞且易于進入的真空腔，非常適合處理精細和復雜的基底。

·         可選擇向上或向下配置的源。

·         兼容第三方源。

·         提供旋轉、加熱和偏置選項，用于三維物體的涂層。

·         自動化且由配方驅動的軟件。

·        

基礎系統(tǒng)配置：

·         沉積腔尺寸：450 mm × 450 mm × 450 mm

·         基礎真空度：< 5×10??托

·         濺射方向：向下濺射

·         樣品臺：4英寸晶圓，20轉/分鐘旋轉

·         抽真空系統(tǒng)：700升/秒渦輪分子泵，配備7.2立方米/小時干式前級泵

·         閥門：手動閥門、快門和線性驅動裝置

·         控制軟件：配方驅動的工藝控制、電源控制和數(shù)據(jù)記錄

·         原位監(jiān)測：石英晶體微量天平用于工藝監(jiān)測和終點檢測

·         源端口：最多可連接6個沉積源

·         源類型：納米顆粒源、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟源、K型離子源、射頻原子源

Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)可選配置：

·         可拆卸的沉積屏蔽裝置

·         向上配置的源幾何結構

·         樣品臺選項：

o    直流偏置用于納米顆粒加速

o    射頻偏置用于樣品表面清潔

o    加熱至800℃

·         閥門、快門和線性驅動裝置的自動化選項

·         渦輪泵前的可調擋板，用于在較低氣體流量下增加濺射的動態(tài)壓力范圍

·         單獨抽真空的裝卸鎖和傳輸臂