在微電子、集成電路等制造領(lǐng)域，靈活性、高效率是推動(dòng)行業(yè)發(fā)展的重要?jiǎng)恿?。托托科技推出?strong>高速版無(wú)掩模光刻機(jī)，憑借革命性的技術(shù)革新，為科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造，以及電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等眾多領(lǐng)域帶來(lái)了全新的解決方案。

托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)融合了激光直寫光刻技術(shù)與 DMD 無(wú)掩模光刻技術(shù)。激光直寫技術(shù)通過(guò)激光束直接在材料表面進(jìn)行高精度加工，而 DMD 無(wú)掩模技術(shù)則通過(guò)數(shù)字微鏡陣列投影光束進(jìn)行圖案化加工，特別適用于大面積光刻，為不同場(chǎng)景下的加工需求提供了多樣化的選擇。

DMD 無(wú)掩模光刻技術(shù)是托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)的核心技術(shù)之一。其基本原理是利用數(shù)字微鏡裝置（Digital Micromirror Device）來(lái)控制微鏡的角度，通過(guò)投影系統(tǒng)在材料表面快速形成圖像或光刻圖案。這些微鏡根據(jù)電信號(hào)的控制會(huì)精確調(diào)節(jié)反射角度，將激光或光源投射到特定位置。系統(tǒng)由光源模組、勻光模組、DMD 模組、投影模組、運(yùn)動(dòng)臺(tái)模組和軟件等幾大部分構(gòu)成，這些模組高效、精準(zhǔn)地協(xié)同工作，實(shí)現(xiàn)了高分辨率圖案的快速無(wú)掩模光刻。工作流程簡(jiǎn)單高效，上位機(jī)發(fā)送圖形數(shù)據(jù)到 DMD 模組，DMD 顯示對(duì)應(yīng)的圖形，經(jīng)由 DMD 反射的光攜帶著圖形信息，經(jīng)過(guò)一系列光學(xué)元件后照射到基片上，實(shí)現(xiàn)了圖形的轉(zhuǎn)移。高精度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的協(xié)同工作，確保不同曝光區(qū)域的精準(zhǔn)拼接，最終實(shí)現(xiàn)大型、復(fù)雜圖案的動(dòng)態(tài)曝光。

托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)擁有多項(xiàng)核心功能，與傳統(tǒng)的有掩模光刻相比，無(wú)掩模光刻機(jī)更加靈活便捷，省去了制版的時(shí)間和金錢成本，幫助用戶快速驗(yàn)證想法，大大縮短了研發(fā)周期。

在加工精度方面，托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)表現(xiàn)出色。加工精度 1μm 可以滿足大多數(shù)加工需求，而針對(duì)精度要求更高的用戶，我們提供加工精度可達(dá) 400 nm 的產(chǎn)品供您選擇，能夠滿足各種高精度加工場(chǎng)景。

速度是另一個(gè)關(guān)鍵指標(biāo)。托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)的速度高達(dá) 1200 mm2/min，對(duì)于大尺寸樣品的加工來(lái)說(shuō)，效率變得尤為重要，我們?yōu)槟峁┝烁咚俑呔鹊脑O(shè)備來(lái)滿足您的需求，顯著提高了生產(chǎn)效率。

加工幅面方面，如果您是有超大幅面加工需求的用戶，我們可提供加工幅面達(dá) 4 m2 的產(chǎn)品來(lái)滿足您的需求，能夠應(yīng)對(duì)各種大規(guī)模加工任務(wù)。

此外，托托科技無(wú)掩模光刻機(jī)還具備灰度光刻能力，可達(dá) 4096 階。4096 階的灰度能力，能夠精準(zhǔn)地在光刻材料上構(gòu)建出具有高度復(fù)雜且細(xì)膩層次變化的微觀結(jié)構(gòu)或圖案，為微納制造領(lǐng)域帶來(lái)工藝精度與豐富的設(shè)計(jì)可能性，為科研創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā)提供了更廣闊的空間。

托托科技高速版無(wú)掩模光刻機(jī)以其豐富的功能，成為微納制造領(lǐng)域的理想之選。無(wú)論是科研機(jī)構(gòu)還是生產(chǎn)企業(yè)，都能從中受益，開啟微納制造的新篇章。