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NEXUS 物理氣相沉積PVD

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
產(chǎn)品標(biāo)簽

物理氣相沉積PVD薄膜沉積

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 靈活的沉積平臺服務(wù)于廣泛的應(yīng)用

Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積(PVD)系統(tǒng),為各類薄膜沉積應(yīng)用提供了極大的靈活性和多功能性,使其在當(dāng)今快速發(fā)展的技術(shù)環(huán)境中脫穎而出。無論是在半導(dǎo)體、光電子材料、顯示技術(shù)還是其他高科技領(lǐng)域,NEXUS PVD 都能夠滿足客戶的多樣化需求。

該系統(tǒng)的加工精度高達(dá) 200 毫米,不僅保證了沉積過程的精確控制,還使得它能夠支持多種不同的工藝需求。NEXUS PVD 的先進(jìn)工藝能力,結(jié)合=均勻性,確保了每一層沉積膜的質(zhì)量和性能都達(dá)到行業(yè)水平。這種優(yōu)質(zhì)的性能在提高整體工藝產(chǎn)量方面發(fā)揮了關(guān)鍵作用,用戶能夠以更高的良率實現(xiàn)高效生產(chǎn)。

此外,NEXUS PVD 平臺彰顯了出色的吞吐量和正常運(yùn)行時間,顯著降低了設(shè)備的擁有成本。這意味著客戶可以在保持高產(chǎn)量的同時,減少維護(hù)和運(yùn)營成本,進(jìn)一步提升投資回報率。

2. NEXUS 平臺還集成了 Veeco 多項技術(shù)

包括離子束沉積、離子束蝕刻和原子層沉積(ALD),使得該系統(tǒng)具備處理多種沉積需求的能力。離子束沉積能夠?qū)崿F(xiàn)高質(zhì)量薄膜的沉積,適合于對膜厚均勻性和膜缺陷有嚴(yán)格要求的應(yīng)用;而離子束蝕刻技術(shù)則用于精細(xì)圖案的刻制,更好地滿足高精度集成電路制造的需要。原子層沉積技術(shù)則在沉積極薄膜方面表現(xiàn),適用于高技術(shù)含量的光電材料、傳感器及其他前沿科技領(lǐng)域。

Veeco 的 NEXUS PVDi 系統(tǒng)通過其頂尖的靈活性、可靠性和高效性,為廣泛的薄膜沉積應(yīng)用提供了解決方案,幫助客戶在競爭激烈的市場中保持地位。無論是從技術(shù)創(chuàng)新還是經(jīng)濟(jì)效益來看,NEXUS PVDi 系統(tǒng)都為用戶創(chuàng)造了巨大的增值潛力。



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