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Phoenix 原子層沉積ALD

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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原子層沉積ALD薄膜沉積

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,電氣

Phoenix – 批量生產(chǎn)原子層沉積

1. 生產(chǎn)能力

Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過精心設(shè)計(jì),可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)制造的任何制造環(huán)境中實(shí)現(xiàn)高吞吐量和長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實(shí)現(xiàn)可重復(fù)、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達(dá)6條獨(dú)立的驅(qū)體生產(chǎn)線,可根據(jù)您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學(xué)成分。緊湊的占地面積和創(chuàng)新的設(shè)計(jì)使Phoenix®成為具有批量生產(chǎn)ALD要求的人們的實(shí)用選擇。

2. 主要功能包括

對(duì)工藝參數(shù)(包括溫度、流量和壓力)進(jìn)行精確的軟件控制,即使在敏感的基材上也能實(shí)現(xiàn)無(wú)缺陷的涂層

獲得利的 ALD Shield™ 蒸汽捕集器可防止沉積物積聚,并大限度地減少多余的工藝氣體排放到環(huán)境中

大型工藝室可容納 GEN 2.5 襯底、多個(gè)晶圓盒和更大的 3D 物體

擁有成本低,啟動(dòng)和運(yùn)營(yíng)成本低

占地面積小,可節(jié)省寶貴的潔凈室空間

標(biāo)準(zhǔn)配方和 ALD 材料

來自技術(shù)團(tuán)隊(duì)和博士科學(xué)家的全球全面支持和服務(wù)

符合 CE、FCC 和 CSA 標(biāo)準(zhǔn),具有許多內(nèi)置安全功能



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