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IVG-2035/3035 半自動(dòng)雙軸減薄機(jī)

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減薄機(jī)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










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1 產(chǎn)品概述:

半自動(dòng)雙軸減薄機(jī)是一款高精度研削設(shè)備,它安裝了兩個(gè)砂輪軸,以提供更為靈活和高效的研削能力。該設(shè)備通過手動(dòng)裝片方式操作,并配備了自動(dòng)厚度測量和補(bǔ)償系統(tǒng),確保研削過程中的精度和一致性。半自動(dòng)雙軸減薄機(jī)的工作臺(tái)可根據(jù)客戶需求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì),以滿足不同尺寸和材料的加工需求。

2 設(shè)備用途:

半自動(dòng)雙軸減薄機(jī)主要用于半導(dǎo)體制造、硅片加工、光學(xué)材料處理及薄膜材料制備等領(lǐng)域。其主要用途包括:

  1. 半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體晶圓的制造過程中,對(duì)晶圓進(jìn)行精確減薄,以滿足后續(xù)工藝對(duì)晶圓厚度的嚴(yán)格要求。

  2. 硅片加工:對(duì)硅片進(jìn)行高精度研削,調(diào)整硅片厚度,提高硅片的質(zhì)量和加工效率。

  3. 光學(xué)材料處理:在光學(xué)元件的制備過程中,對(duì)光學(xué)材料進(jìn)行精確減薄,以滿足光學(xué)元件對(duì)材料厚度和表面粗糙度的特殊要求。

  4. 薄膜材料制備:在薄膜材料的制備過程中,半自動(dòng)雙軸減薄機(jī)可用于對(duì)薄膜進(jìn)行精確控制厚度的研削加工。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

半自動(dòng)雙軸減薄機(jī)具有以下幾個(gè)顯著特點(diǎn):

  1. 高精度:采用優(yōu)良的研削技術(shù)和精密的控制系統(tǒng),確保研削過程的高精度和一致性。厚度在線測量重復(fù)精度可達(dá)±0.001 mm,滿足高精度加工需求。

  2. 雙軸研削單元:配備兩個(gè)砂輪軸,能夠同時(shí)進(jìn)行粗磨和精磨操作,提高加工效率,并減少工件在不同工序間的轉(zhuǎn)移時(shí)間。

  3. 自動(dòng)厚度測量和補(bǔ)償系統(tǒng):實(shí)時(shí)測量工件厚度,并根據(jù)測量結(jié)果自動(dòng)調(diào)整研削量,確保研削后的工件厚度達(dá)到預(yù)定目標(biāo)值。

  4. 定制化工作臺(tái):工作臺(tái)可根據(jù)客戶需求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì),以適應(yīng)不同尺寸和材料的加工需求,提高設(shè)備的靈活性和適用性。

綜上所述,半自動(dòng)雙軸減薄機(jī)以其高精度、雙軸研削單元、自動(dòng)厚度測量和補(bǔ)償系統(tǒng)、定制化工作臺(tái)、操作靈活以及良好的兼容性等特點(diǎn),在半導(dǎo)體制造、硅片加工、光學(xué)材料處理及薄膜材料制備等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。

4  設(shè)備參數(shù):


項(xiàng)目

IVG-2035

IVG-3035

大晶圓尺寸

8 英寸

12 英寸

砂輪規(guī)格

?203(OD)mm

?303(OD)mm

砂輪軸功率

6.0 KW

9.5 KW

砂輪軸轉(zhuǎn)速范圍

0~6000 RPM

0~4000 RPM

工作臺(tái)轉(zhuǎn)速

0~400 RPM

0~260 RPM

Z軸進(jìn)給速度

0.1~1000 um /sec

0.1~1000 um /sec

厚度在線測量重復(fù)精度

±0.001 mm

±0.001 mm

厚度在線測量范圍(OMM

0-4800um

0-4800um

NCG非接觸實(shí)時(shí)測厚系統(tǒng)

可選配

可選配





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