微電極拉制儀拉出的電極，電極的往往不是很光滑。為了能與細胞膜間形成穩(wěn)定可靠的封接，一般拉制出的微電極需要進行拋光處理，此時需要使用拋光儀。在一些實驗中還需要在微電極涂上疏水硅膠樹脂（Sylgard）以減小跨壁電容（Transmural capacitance）帶來的噪聲。

一、美國WPI公司系列產(chǎn)品
       MF-200型水平微電極拋光儀

主要應(yīng)用：
       可拋光膜片鉗、細胞內(nèi)外記錄電極以及微注射電極等。
主要特點：
       1、水平拋光。
       2、提供大中小三種不同粗細的加熱絲，適合不同的實驗要求。
       3、H602型顯微鏡：物鏡40倍、目鏡10倍或15倍（配備測微尺，有長度刻度與角度刻度），工作距離長（3mm）。
       4、Pt加熱絲與顯微鏡物鏡固定在一起，解決了鏡下尋找加熱絲的難度。

DMF-1000型水平微電極拋光儀是在MF-200型基礎(chǔ)上研制出的新型拋光儀

主要應(yīng)用：
       可對膜片鉗、細胞內(nèi)外記錄電極以及微注射電極等進行拋光。
主要特點：
       1、水平拋光
       2、采用數(shù)字信號處理（DSP）技術(shù)，可對拋光時間進行精確控制
       3、記憶功能。可儲存10個拋光程序，設(shè)定加熱電壓和加熱時間
       4、有手動和自動拋光兩種模式
       5、可選腳踏開關(guān)
       H602型顯微鏡物鏡40倍、目鏡10倍或15倍，工作距離長（3mm）
       空氣控制功能。的壓力系統(tǒng)可將壓縮空氣通過玻璃微電極內(nèi)部到達，在改變電極桿部時不使電極口徑變小。
       Pt加熱絲與顯微鏡物鏡固定在一起，解決了鏡下尋找加熱絲的難度。

二、美國ALA公司CPM-2型水平微電極拋光儀

主要應(yīng)用：
       可對膜片鉗、細胞內(nèi)外記錄電極以及微注射電極等進行拋光及涂膠
主要特點：
       1、水平拋光
       2、具有氣體噴射管，可對電極進行涂膠。
       3、4倍或6倍用于涂膠，20倍或40倍長工作距離目前用于拋光。
       4、可以自行選用現(xiàn)有的舊倒置顯微鏡來匹配。
       5、配備有測微尺。
       6、加熱絲為鉑或銥，直徑250微米。

三、日本Narishige公司  MF-830拋光儀

主要特點：

       1. 目鏡：15X，物鏡變焦倍數(shù)： 5X 和 35X
       2. 放大倍數(shù)：75 --- 525倍
       3. 加熱操作器移動距離: X 軸14mm,  Y軸14mm,  Z軸14mm，
       4. 電極操作器移動距離：Y軸12mm,  Z軸28mm
       5. 工作距離：0 – 30mm
       6. 操作方便，設(shè)計合理

四、2002-C玻璃微電極顯微拋光儀是一款自主研發(fā)的國產(chǎn)拋光儀，性價比較高，得到客戶的一致認同

主要技術(shù)指標(biāo)：
       電熱絲工作電壓：0─3V
       電熱絲工作電流：0─2A
       照  明  電  壓：0─5V
       拋光放大倍數(shù)  ：16X25=400倍
       拋光物鏡工作距離：3.3mm
       電  源  電  壓：~180V─240V
配件及規(guī)格：
       X16目鏡 2只， 其中一只裝有1/20測微尺
       X10，X25長工作距離物鏡 各1只
       照明燈泡；6V. 0.75A 1只 
       爐絲：0.1毫米特種白金絲