KT-Z1650CVD小型真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

小型蒸鍍儀

KT-Z1650CVD是一款小型臺式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對大部分金屬進(jìn)行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明玻璃腔體減少樣品污染，樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。

鍍膜機(jī)晶振片    鍍膜膜厚測量晶控片

  石英晶片

  膜厚監(jiān)測儀 

薄膜厚度監(jiān)測儀

如何選用最合適的晶振片

(1)鍍低應(yīng)力膜料時，選擇鍍金晶振片

2)使用鍍銀或銀鋁合金鍍高應(yīng)力膜層

3)使用銀鋁合金晶振片鍍介質(zhì)光學(xué)膜

KT-Z1650CVD小型真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

晶振片工作原理

石英晶體壓電效應(yīng)的固有頻率不僅取決

于其幾何尺寸，切割類型，而且還取決

于芯片的厚度。當(dāng)芯片上鍍了某種膜層，

使芯片的厚度增大。則芯片的固有頻率

會相應(yīng)的衰減。石英晶體的這個效應(yīng)是

質(zhì)量負(fù)荷效應(yīng)。石英晶體膜厚監(jiān)控儀就

是通過測量頻率或與頻率有關(guān)的參量的

變化而監(jiān)控淀積薄膜的厚度

膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術(shù)加上*的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實時監(jiān)測。

KT-Z1650CVD小型真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)

技術(shù)支持&服務(wù)：

1. 技術(shù)支持：在合同簽訂之前，我們的專業(yè)工程師會在充分了解客戶需求的前提下，為客戶做出的選型和方案設(shè)計，使客戶充分了解并理解產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)、性能用途、使用場合、安全注意事項等，以幫助客戶做出正確的選擇。

2. 安裝與培訓(xùn)：在產(chǎn)品使用前，我們會派專業(yè)工程師為您提供現(xiàn)場技術(shù)支持、培訓(xùn)及演示服務(wù)。

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