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CER的SE 500adv 結合橢偏反射

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發(fā)和應用。專業(yè)的團隊,專精的服務,提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術工程師和科研工作者進行現場演示和技術交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導體材料分析,材料刻蝕

產地類別 國產 應用領域 化工,電子/電池

厚度確定

橢偏測量和反射測量的結合允許通過自動識別循環(huán)厚度周期來快速且明確地確定透明膜的厚度。

寬的測量范圍

激光橢偏儀和反射儀的結合將透明薄膜的厚度范圍擴展到25μm,更多地取決于光度計的選項。

擴展激光橢偏儀的極限

結合橢偏反射性能優(yōu)異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數和膜厚。


SE 500adv結合了橢偏儀和反射儀,了測量透明膜層厚度的模糊性。它把可測量的厚度擴展到25m,因此SE 500adv擴展了標準激光橢偏儀SE 400adv的能力,特別適用于分析較厚的介質膜、有機材料、光阻、硅和多晶硅薄膜。

SE 500adv可作為激光橢偏儀、膜厚探針和CER橢偏儀使用。因此,它提供了標準激光橢偏儀從未達到的靈活性。作為橢偏儀,可以進行單角度和多角度測量。當用作膜厚探針時,在正常入射下測量透明或弱吸收膜的厚度。

SE 500adv結合橢偏反射中的橢偏測量和反射測量的組合包括橢圓測量光學部件、角度計、組合反射測量頭和自動準直透鏡、樣品臺、氦氖激光光源、激光檢測單元和光度計。

SE 500adv的選項支持在微電子、微系統(tǒng)技術、顯示技術、光伏、化學等領域的應用。


X-y-mapping stageThickness map of spin coated photoresist / Si (substrate) with step size of 500 µm and 100 µm11SE 500-300 with manual stage and autofocusCombined laser ellipsometer with reflectometer




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