GM10/100/1000 粉末ALD廠家
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 廈門韞茂科技有限公司
- 品牌其他品牌
- 型號GM10/100/1000
- 所在地廈門市
- 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
- 更新時間2025/5/8 14:15:37
- 訪問次數(shù) 1942
產(chǎn)品標簽
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| 價格區(qū)間 | 100萬-200萬 | 應用領域 | 綜合 |
|---|
一、粉末ALD廠家核心參數(shù)：
價格區(qū)間：100萬-200萬
產(chǎn)地類別：國產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)（ALD）
襯底尺寸：10g-1000g粉末
工藝溫度：RT-300℃
前驅(qū)體數(shù)：2組反應氣體8組液態(tài)或固態(tài)反應前驅(qū)體
重量：300KG
尺寸(WxHxD)：1150*1030*1850mm
均勻性：在粉末表面實現(xiàn)均勻原子層包覆,包覆均一性<3%
二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。
三、粉末ALD廠家產(chǎn)品描述：
廈門韞茂科技公司的GM系列自動粉末原子層沉積設備它可以在微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長，GM1000的反應室可自動運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設備配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻。該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、動態(tài)粉末流化機構、全自動溫度控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項。是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具。
四、售后服務：
保修期：1年
是否可延長保修期：否
現(xiàn)場技術咨詢：有
免費培訓：1.設備出廠前，提供至少2人一周的設備原廠培訓。2.設備在現(xiàn)場完成安裝調(diào)試
免費儀器保養(yǎng)：有需要可安排
保內(nèi)維修承諾：保修期內(nèi)（除天災和人為損害外）部件、元件費用、出差費用均由我司承擔
報修承諾：質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應，并在8小時內(nèi)派技術人員到現(xiàn)場解決故障
五、技術參數(shù)：
價格區(qū)間：100萬-200萬
產(chǎn)地類別：國產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)（ALD）
襯底尺寸：10g-1000g粉末
工藝溫度：RT-300℃
前驅(qū)體數(shù)：2組反應氣體8組液態(tài)或固態(tài)反應前驅(qū)體
重量：300KG
尺寸(WxHxD)：1150*1030*1850mm
均勻性：在粉末表面實現(xiàn)均勻原子層包覆,包覆均一性<3%
二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。
三、粉末ALD廠家產(chǎn)品描述：
廈門韞茂科技公司的GM系列自動粉末原子層沉積設備它可以在微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長，GM1000的反應室可自動運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設備配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻。該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、動態(tài)粉末流化機構、全自動溫度控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項。是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具。
四、售后服務：
保修期：1年
是否可延長保修期：否
現(xiàn)場技術咨詢：有
免費培訓：1.設備出廠前，提供至少2人一周的設備原廠培訓。2.設備在現(xiàn)場完成安裝調(diào)試
免費儀器保養(yǎng)：有需要可安排
保內(nèi)維修承諾：保修期內(nèi)（除天災和人為損害外）部件、元件費用、出差費用均由我司承擔
報修承諾：質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應，并在8小時內(nèi)派技術人員到現(xiàn)場解決故障
五、技術參數(shù)：
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