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CSK2-12DZ 單溫區(qū)CVD管式爐系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 濟南魯熱儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CSK2-12DZ
  • 產(chǎn)地 濟南
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2025/6/11 13:19:43
  • 訪問次數(shù) 2749

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濟南魯熱儀器是由多位具備實驗儀器行業(yè)十多年工作經(jīng)驗的行業(yè)精英組建而成,公司致力于實驗儀器的研發(fā)、設(shè)計、制造、銷售、售后一體化服務(wù)。

公司專注于電加熱類儀器設(shè)備以及分析儀器的研發(fā)設(shè)計,包含馬弗爐、箱式爐、高溫馬弗爐、陶瓷纖維馬弗爐、坩堝馬弗爐、真空氣氛箱式爐、真空氣氛管式爐、CVD設(shè)備、PECVD設(shè)備、升降式馬弗爐、電熱板、COD恒溫加熱器、消解儀等加熱類儀器設(shè)備。公司還有全自動凱氏定氮儀、全自動脂肪測定儀、自動凱氏定氮儀等分析儀器以及配套的前處理設(shè)備。

公司承攬非標(biāo)產(chǎn)品定制服務(wù)、產(chǎn)品升級改造、產(chǎn)品委托維修保養(yǎng)等服務(wù)。

公司產(chǎn)品涵蓋電加熱類儀器、分析類儀器、樣品前處理類儀器。

公司秉承“專業(yè)研發(fā)、專業(yè)設(shè)計、專業(yè)制造、專業(yè)服務(wù)”的企業(yè)理念,專注產(chǎn)品質(zhì)量、真誠服務(wù)客戶!


馬弗爐、箱式電阻爐、管式爐、升降爐、電熱板、消解儀、凱氏定氮儀、脂肪測定儀、纖維測定儀

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 加熱方式 合金電阻絲
價格區(qū)間 面議 控溫精度 ±1℃℃
內(nèi)部尺寸 φ50--φ200mm 升溫速度(達到最高溫) 60/min
儀器種類 管式爐 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥/生物制藥
最大功率 6000kW 最高溫度 1200℃

單溫區(qū)CVD管式爐系統(tǒng)

CVD系統(tǒng)應(yīng)用:

CVD是化學(xué)氣相沉積的英文簡寫,本公司生產(chǎn)的單溫區(qū)CVD管式爐系統(tǒng)是利用管式爐加熱,把構(gòu)成固態(tài)沉積物的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入爐管內(nèi),在爐管內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。

CVD系統(tǒng)分類:

CVD技術(shù)常常通過反應(yīng)類型或者壓力來分類,包括低壓CVD(LPCVD),常壓CVD(APCVD),亞常壓CVD(SACVD),超高真空CVD(UHCVD),等離子體增強CVD(PECVD),高密度等離子體CVD(HDPCVD)以及快熱CVD(RTCVD)。然后,還有金屬有機物CVD(MOCVD),根據(jù)金屬源的自特性來保證它的分類,這些金屬的典型狀態(tài)是液態(tài),在導(dǎo)入容器之前必須先將它氣化。

CSK2-12DZ系列單溫區(qū)CVD系統(tǒng)組成:

CVD系統(tǒng)=管式爐+真空抽氣系統(tǒng)+多路供氣系統(tǒng)(或者液態(tài)蒸發(fā)系統(tǒng))

CSK2-12DZ系列單溫區(qū)CVD系統(tǒng)配置選擇:

管式爐:

SK2-12DZ 管式真空氣氛爐,1200℃,管徑:50—200mm

真空抽氣系統(tǒng):

LVSE-0.1低真空控制系統(tǒng)

單溫區(qū)CVD管式爐系統(tǒng)

HVSE高真空控制系統(tǒng)

單溫區(qū)CVD管式爐系統(tǒng)

多路供氣系統(tǒng):

ZDS-X多路質(zhì)子流量計控制供氣系統(tǒng)

單溫區(qū)CVD管式爐系統(tǒng)

FDS-X多路浮子流量計控制供氣系統(tǒng)

單溫區(qū)CVD管式爐系統(tǒng)

PECVD系統(tǒng):

PECVD:是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應(yīng),因而這種CVD稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)。

單溫區(qū)CVD管式爐系統(tǒng)

PECVD系統(tǒng)的中文名是等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。是在CVD的基礎(chǔ)上加一個射頻電源,這個射頻電源通過感應(yīng)線圈使管式爐爐管內(nèi)氣體形成等離子體,等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),從而在基片上沉積出所期望的固態(tài)沉積物。PECVD具有比普通CVD沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高、沉積所需的溫度低等優(yōu)點。PECVD是由單溫區(qū)CVD管式爐系統(tǒng)再加一個PE500射頻電源、線圈組成。



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