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EVG 320 Wafer Cleaning EVG 320 自動化單晶圓清洗系統(tǒng)
- 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 EVG 320 Wafer Cleaning
- 產(chǎn)地 奧地利
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/9/25 16:46:06
- 訪問次數(shù) 800
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領(lǐng)域 | 電子/電池 |
|---|
EVG 320 Automated Single Wafer Cleaning System
EVG 320 自動化單晶圓清洗系統(tǒng)
自動單晶片清洗系統(tǒng)，可有效去除顆粒
EVG320自動化單晶圓清洗系統(tǒng)可在處理站之間自動處理晶圓和基板。 機械手處理系統(tǒng)可確保在盒到盒或FOUP到FOUP操作中自動預對準和裝載晶圓。 除了使用去離子水沖洗外，配置選項還包括兆頻，刷子和稀釋的化學藥品清洗。
特征
多達四個清潔站
全自動盒帶間或FOUP到FOUP處理
可進行雙面清潔的邊緣處理（可選）
使用1 MHz的超音速噴嘴或區(qū)域傳感器（可選）進行高效清潔
先進的遠程診斷
防止從背面到正面的交叉污染
*由軟件控制的清潔過程
EVG320技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）200、100-300毫米
清潔系統(tǒng)
開室，旋轉(zhuǎn)器和清潔臂
腔室：由PP或PFA制成（可選）
清潔介質(zhì)：去離子水（標準），其他清潔介質(zhì)（可選）
旋轉(zhuǎn)卡盤：真空卡盤（標準）和邊緣處理卡盤（選件），由不含金屬離子的清潔材料制成
旋轉(zhuǎn)：zui高3000 rpm（5秒內(nèi)）
超音速噴嘴：頻率：1 MHz（3 MHz選件）；輸出功率：30-60 W；
去離子水流量：zui高1.5升/分鐘；有效清潔區(qū)域：?4.0 mm；材質(zhì)：聚四氟乙烯
兆聲區(qū)域傳感器：可選的；
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