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薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

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      巨力光電(北京)有限公司立足于北京市副中心通州區(qū),專門引進(jìn)歐洲、美國、日本等國家制造的先進(jìn)科學(xué)儀器設(shè)備,為客戶提供完備的售前咨詢和售后服務(wù)、技術(shù)支持。公司骨干在該行業(yè)有超過10年的經(jīng)驗(yàn),專業(yè)的服務(wù)水平、完整的售后服務(wù)體系。

 目前主要產(chǎn)品涉及材料科學(xué)、微納米技術(shù)、表面測(cè)量和光電器件、光伏產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件的檢測(cè)與研發(fā)等領(lǐng)域。

 公司本著以科技為導(dǎo)向、以客戶為中心、以服務(wù)為宗旨,竭誠為新老客戶提供貼心的服務(wù)!


AAA 太陽光模擬器,IV測(cè)試,雙燈太陽光模擬器,太陽能電池載流子遷移率測(cè)試系統(tǒng),太陽能電池瞬態(tài)光電壓 光電流測(cè)試,鈣鈦礦太陽能電池&疊層太陽能電池仿真軟件,多通道太陽能電池穩(wěn)定性測(cè)試系統(tǒng),OLED光譜測(cè)量系統(tǒng)/角譜儀分析儀,OLED仿真軟件,高分子壓電系數(shù)測(cè)試儀,薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng),薄膜應(yīng)力測(cè)試儀,薄膜熱應(yīng)力測(cè)試儀,桌面原子層沉積系統(tǒng),鈣鈦礦LED壽命測(cè)試儀,太陽能電池量子效率QE測(cè)量系統(tǒng),石墨烯/碳納米管制備技術(shù),桌面型納米壓印機(jī),太陽能電池光譜響應(yīng)測(cè)試儀,SPD噴霧熱解成膜系統(tǒng),電滯回線及高壓介電擊穿強(qiáng)度測(cè)試系統(tǒng),電容充放電測(cè)試儀,薄膜生長速率測(cè)試儀

薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng),又名薄膜應(yīng)力計(jì)或薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)!采用非接觸MOS激光技術(shù);不但可以對(duì)樣品表面應(yīng)力分布進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析,而且還可以進(jìn)行樣品表面二維應(yīng)力、曲率成像分析;并且這種設(shè)計(jì)始終保證所有陣列的激光光點(diǎn)始終在同一頻率運(yùn)動(dòng)或掃描,從而有效的避免了外界振動(dòng)對(duì)測(cè)試結(jié)果的影響;同時(shí)大大提高了測(cè)試的分辨率;適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析;

 

典型用戶:Harvard University 2套,

     Stanford University,

     Johns Hopkins University,

     Brown University 2套,

     Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute,

     西安交通大學(xué),

     中國計(jì)量科學(xué)研究院等、

     半導(dǎo)體和微電子制造商(如IBM.,Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC,Nissan ARC,Nichia Glass Corporation)等;

 

相關(guān)產(chǎn)品:
 *實(shí)時(shí)原位薄膜應(yīng)力儀(kSA MOS Film Stress Tester):同樣采用多光束MOS技術(shù),可裝在各種真空沉積設(shè)備上(如:MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects),對(duì)于薄膜生長過程中的應(yīng)力變化進(jìn)行實(shí)時(shí)原位測(cè)量和二維成像分析;
 *薄膜熱應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)(kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester)

 

薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):
kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System,kSA MOS Film Stress Mapping System;
1.XY雙向程序控制掃描平臺(tái)掃描范圍:300mm (XY)(可選);
2.XY雙向掃描速度:可達(dá)20mm/s;
3.XY雙向掃描平臺(tái)掃描步進(jìn)/分辨率:down to 2 μm ;
4.樣品holder兼容:50mm, 75mm, 100mm, 150mm, 200mm, and 300mm直徑樣品;

5.程序化控制掃描模式:選定區(qū)域、多點(diǎn)線性掃描、全面積掃描;
6.成像功能:樣品表面2D曲率、應(yīng)力成像,及3D成像分析;
7.測(cè)量功能:曲率、曲率半徑、應(yīng)力強(qiáng)度、應(yīng)力、Bow和翹曲等;

 

主要特點(diǎn):
1.程序化控制掃描模式:單點(diǎn)掃描、選定區(qū)域、多點(diǎn)線性掃描、全樣品積掃描;
2.成像功能:樣品表面2D曲率成像,定量薄膜應(yīng)力2D成像分析;
3.測(cè)量功能:薄膜應(yīng)力、翹曲、曲率半徑等;
4.支持變溫?zé)釕?yīng)力測(cè)量功能,溫度范圍-65C to 1000C
5.薄膜殘余應(yīng)力測(cè)量;

 

實(shí)際應(yīng)用

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