等離子清洗機(jī)應(yīng)用于材料結(jié)合或精確改變材料表面屬性,等離子表面清洗機(jī),可對表面精密清洗,激活,蝕刻,涂層等,等離子清洗設(shè)備分常壓及低壓等離子清洗設(shè)備.適用于表面復(fù)雜件,批量及在線處理，標(biāo)準(zhǔn)型等離子清洗機(jī)長期備有現(xiàn)貨，交貨快，分考慮各行各業(yè)的需求特點(diǎn)，能根據(jù)客戶的使用場景進(jìn)行一對一的產(chǎn)品設(shè)計(jì)

等離子清洗機(jī) 晶圓去膠設(shè)備能夠解決表面清洗難題的同時(shí)提供改性活化作用，方便后續(xù)黏晶、封膠、點(diǎn)膠等等工藝；

晶圓等離子清洗機(jī)提高 附著力能讓粘接更加牢固，減少分層，杜絕氣泡；通過激光工藝打穿的小孔，溶劑難以清洗，而等離子體可以輕松進(jìn)入；

晶圓片等離子清洗機(jī)可用于成批剝離，材料包括光致抗蝕劑，氧化物，氨化物蝕刻，電介質(zhì)。硅片去除污染物和氧化物，提高粘接率和可靠性等等。

PLASMA等離子清洗機(jī) 晶圓去膠設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料的潤濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂

等離子清洗機(jī) 晶圓去膠設(shè)備高能量可以分解材料表面的化學(xué)物質(zhì)或有機(jī)污染物，有效去除附著的雜質(zhì)，從而使材料表面達(dá)到后續(xù)涂覆過程所需的條件。

等離子清洗機(jī) 晶圓去膠設(shè)備處理的目的是去除表面的無機(jī)物，還原氧化層，增加銅表面的粗糙度，提高產(chǎn)品的可靠性。

為何選擇我們的等離子清洗機(jī)？

專注研發(fā)、制造、生產(chǎn)各種規(guī)格等離子清洗機(jī)20多年，合作企業(yè)涵蓋半導(dǎo)體、電子、光電、紡織、塑膠、汽車、塑膠、生物、醫(yī)療、印刷、家電、日用品及環(huán)保等眾多行業(yè)，服務(wù)過300+優(yōu)質(zhì)客戶

免費(fèi)咨詢講解、免費(fèi)樣品測試處理、免費(fèi)上門培訓(xùn)安裝調(diào)試

可根據(jù)不同的客戶需求提供一對一定制化設(shè)備解決方案，歡迎來廠考察