1. 真空部分包括真空泵，由機械泵和渦輪分子泵組成，可實現(xiàn)高真空處理；2.配置有一個氣體罐（微量體積）和一個液體罐，內分別裝有吸附氣體和液體，通過對進口和出口的針型閥進行切換，來實現(xiàn)氣體罐內氣體的補充以及紅外原位池內吸附氣體的緩慢充入，液體罐中液體可直接加入；

3. 氣體可通過氣體罐后端的針型閥緩慢充入紅外原位池中，液體也可以通過液體罐后端的針型閥向真空的紅外原位池內以蒸汽進行擴散，通過壓力表可實現(xiàn)一定壓力氣體或蒸汽的充入；

4. 不銹鋼原位紅外池各配有一個氣體進出口，可通過對進口和出口的針型閥閥進行切換氣體進出；

5. 待測試固體樣品需壓片，內嵌入樣品槽中，從上插入加熱筒（側面開孔）中進行加熱；

6. 使用優(yōu)質氟化鈣或硒化鋅（增強）窗口，保持對紅外光的*的透射率，窗口與樣品正對，以便紅外線穿過樣品進行檢測；

7. 配有10寸電阻觸摸屏控制系統(tǒng)，可對氣動真空閥進行切換，以及對原位池內樣品進行加熱，實現(xiàn)熱催化反應過程；

8. 可配有冷卻水循環(huán)潛水泵，以對原位池部分空間進行循環(huán)冷卻，防止溫度過高至密封墊（軟密封）老化及損壞。

9. 可用于氣體 (CO、CO₂、NH₃等)和液體 (Pyridine、Methanol、Ethanol、H₂O等)的表面吸附紅外表征。

3. 技術指標：
3.1 原位池

3.1.1 不銹鋼池體，直徑60~80 mm：

3.1.2 樣品片需壓片，直徑10~15 mm，厚度<1 mm；

3.1.3 池體加熱溫度：RT~700 ^oC（*使用溫度700 ^oC，加熱控制精度<±1 ^oC）；

3.1.4 原位池耐壓：0~2 MPa（氟化鈣窗片，真空到正壓）；

3.1.5 原位池高度可調節(jié)（光路距離平臺高度20~80 mm），可定制化；

3.1.6 采用氟化鈣/硫化鋅窗片，內嵌式密封。

3.2 真空系統(tǒng)

3.2.1氣體罐體積：1~10 ml；

3.2.2 液體罐體積：2~50 ml；

3.2.3 不銹鋼池體，直徑60~80 mm：

3.2.4 樣品片需壓片，直徑10~15 mm，厚度<1 mm；

3.2.5 池體加熱溫度：0~400 ^oC；

3.2.6 配套使用高真空泵組，體系真空度達到 10^-3Pa數量級；也可以使用單級機械泵，體系真空度： <4 Pa；

3.2.7 原位池高度可調節(jié)（光路距離平臺高度20~80 mm），可定制化；

3.2.8 采用氟化鈣/增強硒化鋅窗片，內嵌式密封；

3.2.9 真空閥門選用氣動SMC真空電磁閥，可耐高真空（可達10^-6Pa）。