新推出的全自動緊湊研磨和全自動金相磨拋系統(tǒng)SAPHIR X-Change與System Lab 2.0*集成，將標(biāo)準(zhǔn)的研磨和拋光設(shè)備合為一體，長度達幾米，例如用于16種研磨和拋光介質(zhì)的加油架，集成加藥裝置和沉淀池。 
操作通過直觀的觸摸屏控件實現(xiàn)自動化。 
*力夾很容易手動松開和擰緊，從而簡化了樣品制備的準(zhǔn)備過程。 
研磨和拋光介質(zhì)會自動更改，并且可以在此過程中直接調(diào)整所有參數(shù)。 
半覆蓋的工作區(qū)具有大面板和擋光板，可提供較高的安全標(biāo)準(zhǔn)。  
全自動金相磨拋系統(tǒng)SAPHIR X-Change功能： 
•集中力研磨拋光系統(tǒng) 
•鋁殼，粉末涂層，可調(diào)的研磨和拋光頭速度 
•定量研磨 
•觸摸屏電子控制 
•自動研磨盤更換 
•帶有水，氣體和乙醇的清潔站 
•超聲波清潔器 
•6位自動加液系統(tǒng)，4個位置的鉆石懸浮液，1個位置潤滑液，終液的1個位置 
•磨盤存儲抽屜 
•45升沉淀池 
•具有抗光性以確保安全

技術(shù)參數(shù)：