一·MTDH-1000 實驗真空電弧爐具體參數

二·MTDH-1000 實驗真空電弧爐用途

   非自耗真空電弧爐主要供大專院校或科研機構在真空或保護氣氛下對少量（數十克至上百克）貴金屬或合金材料高熔點材料·難熔金屬等進行熔化處理。通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料，使之成為合金。
三·真空電弧爐結構說明
　　本產品由爐體、上電極、下電極及爐蓋升降機構、上電極旋轉升降機構，吸鑄模具升降機構，真空系統(tǒng)及電源系統(tǒng)等組成。爐體采用雙層水冷結構，內外層為不銹鋼組焊接而成，并做表面啞光處理。結構新穎外形美觀大方?？刂葡到y(tǒng)與爐體采用一體化設計，并安裝有金屬模擬屏，操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局，并配有模擬圖形，識別度高，方便操作！下電極可裝有五個坩堝工位，一個吸鑄工位 移動上電極可選擇一個進行熔化。上電極可上下移動，方便熔化操作。爐側有一至二個觀察窗用來操作引弧，觀察窗上裝有墨色玻璃保護操作者眼睛。
  真空系統(tǒng)采用二級泵，即K-200油擴散泵（或者分子泵）和TRP-24直聯(lián)泵，操作無聲，無雜音。真空機組上設有水冷擋板、放氣閥及充氣閥。
　　電源控制采用電弧熔煉電源，安全系數高，穩(wěn)定性強。電路設有斷水報警及保護功能。