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極紫外 (EUV) 球面反射鏡

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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Edmund極紫外 (EUV)球面反射鏡

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光譜應(yīng)用系統(tǒng),光譜儀,光源,光纖,積分球,光學(xué)元件,光學(xué)機(jī)械

價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,航空航天,綜合
組件類(lèi)別 光學(xué)元件

極紫外 (EUV) 球面反射鏡

超拋光基片上的/硅多層鍍膜

13.5nm 下可實(shí)現(xiàn)的大反射

設(shè)計(jì)用于 EUV 光束聚焦應(yīng)用

適用于 HHG 應(yīng)用的窄通帶

極紫外 (EUV) 球面反射鏡 具有多層鉬/硅鍍膜,在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設(shè)計(jì),并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS,可大程度地降低散射。這對(duì) EUV 波長(zhǎng)*,因?yàn)?EUV 波長(zhǎng)的散射比長(zhǎng)波長(zhǎng)更多. EUV 球面反射鏡的通帶非常窄,約為 0.5nm,確保只會(huì)在高諧波生成 (HHG) 應(yīng)用中反射 13.5nm 的關(guān)注諧波。EUV  球面反射鏡的典型應(yīng)用包括相干衍射成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 納米加工.

注意:
每個(gè)反射鏡均附運(yùn)行樣本的測(cè)試數(shù)據(jù).

極紫外 (EUV) 球面反射鏡產(chǎn)品信息

DWL (nm)Dia. (mm)EFL (mm)涂層涂層規(guī)格產(chǎn)品編碼
13.525.40250.00Mo/Si Multilayer
Layer: Silicon
Rabs>60% @ 13.5nm#11-730


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