ETSys-InLine 在線橢偏測(cè)量系統(tǒng)是根據(jù)鍍膜機(jī)在線高精度測(cè)量要求，專門研發(fā)的橢偏測(cè)量系統(tǒng)，在此系統(tǒng)中，橢偏測(cè)量部件與鍍膜機(jī)集成為一體。

ETSys-InLine 在線橢偏測(cè)量系統(tǒng)可用于真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)、離子濺射鍍膜機(jī)、原子層沉積鍍膜機(jī)等多種原理的鍍膜機(jī)?？稍诰€測(cè)量光滑平面基底上的納米薄膜，包括單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；并可測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。 

ETSys-InLine 融合量拓科技在高精度激光橢偏儀的*設(shè)計(jì)技術(shù)和橢偏產(chǎn)品制造方面的經(jīng)驗(yàn)，性能穩(wěn)定、可靠。

特點(diǎn):

• 快速在線鍍膜樣品測(cè)量

  可對(duì)樣品進(jìn)行快速在線監(jiān)測(cè)，實(shí)時(shí)反饋鍍膜的真實(shí)信息。

• 系統(tǒng)可選的靈活配置

  根據(jù)用戶實(shí)際檢測(cè)需求，可靈活選用激光橢偏儀、光譜橢偏儀部件等進(jìn)行系統(tǒng)配置。

• 原子層量級(jí)的膜厚分析精度

  采用非接觸、無破壞性的橢偏測(cè)量技術(shù)，對(duì)納米薄膜達(dá)到*的測(cè)量準(zhǔn)確度和靈敏度，膜厚測(cè)量靈敏度可達(dá)到0.05nm。