真空紫外分光光度計V1000用于115nm～300nm波長范圍的光學(xué)特性評價。在真空紫外領(lǐng)域，因為氧氣的原因有很強的吸收，以前都是將光路做成真空測量，但是V-1000采用吹掃性能好的機箱，可以進(jìn)行氮氣吹掃后測量，樣品設(shè)置到測量開始可在短時間內(nèi)完成。另外，因為要雙單色器所以除去雜射光，監(jiān)控雙光束方式提高測光再現(xiàn)性。因此，在157nm實現(xiàn)0.03%的測光再現(xiàn)性。

真空紫外分光光度計V1000

規(guī)格

▼V-1000

大規(guī)模集成電路（Large Scale Integrated circuit）LSI的高集成化使制造過程的微型化進(jìn)一步發(fā)展，伴隨這個趨勢光刻使用光源的波長向短波長推移，現(xiàn)在ArF激光(193nm)是主流。為了對應(yīng)微細(xì)化線寬0.07μm，研究了F2激光(157nm)實用化。因此，有必要對光刻機上使用的鏡頭以及反光鏡等光學(xué)部件在真空紫外領(lǐng)域的光學(xué)特性進(jìn)行正確的評價。