活動范圍 300mm x 300mm
測量范圍 100?~ 35?（Depends on Film Type）
光斑尺寸 40?/20?,4?（option）
測量速度 1~2 sec./site （fitting time）
應用領域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement
Intended for Large Size Wafer Measure
選擇 Reference sample（K-MAC or KRISS or NIST）
Anti-vibration table
接物鏡轉(zhuǎn)換器 Quintuple Revolving Nosepiecs
焦點 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附帶照明 12v 100W Halogen Lamp

·標準模型
·工業(yè)規(guī)格
·自動的X-Y平臺
·自動調(diào)焦
·半導體和裂變產(chǎn)物探測

尺寸 500 x 750 x 650 mm
重量 80Kg
類型 自動
測量型號 ≤ 4"
測量方法 無連接的
測量原理 反射計
特征

測量迅速，操作簡單
非接觸式，非破壞方式
優(yōu)秀的重復性和再現(xiàn)性
2D/3D 映射和造型
自動機械活動控制
電荷耦合器件照相機
自動調(diào)焦