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VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

具體成交價以合同協(xié)議為準

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  沈陽科晶立足國內市場實際情況,以提供Z為實用的產品為己任。產品的質量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎上,產品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。性價比不僅吸引了眾多國內客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內材料分析設備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。


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歡迎來到沈陽科晶,我們是國內實驗室樣品制備設備領域的專家!










切割機,金剛石線切割機,研磨拋光機,提拉涂膜機,旋轉涂膜機,真空鍍膜機,管式爐,箱式爐,電池實驗研究設備,清洗機

產地類別 國產 應用領域 地礦
產品簡介VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等。

主要特點VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
  • 配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調換)。

  • 可制備多種薄膜,應用廣泛。

  • 體積小,操作簡便。

  • 整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據(jù)用戶實際需要調整。

  • 可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。

技術參數(shù)VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

產品名稱

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-3HD

安裝條件

1、工作臺需要:尺寸 L1300mm×W750mm×H700mm,承重 200kg 以上。

2、水:需求:隨機標配 KJ-5000 自循環(huán)冷水機(加注純凈水或者去離子水)。

3、氣:需氬氣(純度≥99.99%),自備氬氣瓶(自帶?6mm 雙卡套接頭)及減壓閥。

4、通風裝置:使用現(xiàn)場需通風(必要時可自行加裝換氣裝置)。

5、供電源:單相:AC220V 50Hz 國標 10A 插座,必須有良好接地,前端需加裝 16A 空氣開關。

6、現(xiàn)場環(huán)境:要求:溫度 25℃±15℃,濕度 55%Rh±10%Rh 以下,干燥無塵,無易燃易爆氣體。

主要參數(shù)

統(tǒng)

真空室尺寸

φ295×高 265mm

備注說明

真空泵組

分子泵:Hipace80 渦輪泵

前級泵:MVP015-2DC 隔膜泵

浦發(fā)(Pfeiffer)

本底真空度

5.0E-3Pa(5.0E-5hPa)

沉積前基礎真空要求

極限真空度

5.0E-4Pa(5.0E-6hPa)

受現(xiàn)場環(huán)境等因素影響

工作壓力

0.1~5Pa(0.001~0.05hPa)

氬氣為主,反應氣體比例添加

抽速

前級泵:1 m3/h

分子泵:67 l/s

影響抽真空時間

濺射電源

類型/數(shù)量

DC(直流):2臺

RF(射頻):1臺

DC:金屬靶 RF:絕緣靶

(搭配電源類型可選配)

輸出功率

范圍

DC:0~500W

RF:0~300W

功率輸出模式

MAX輸出功率

匹配阻抗

50Ω

確保功率傳輸效率

工作氣體

標配:氬氣(Ar)

建議使用:Ar 純度 99.999%

氬氣流量

(2路輸入)

1路:1~100sccm

1路:1~200sccm

注:如需要通入其它類型保

護氣體可定制

流量計精度

±1%F.S.

/

樣品臺尺寸

Φ132mm

≈5.2 英寸

樣品臺轉速

1~20rpm

提升膜厚均勻性

加熱溫度

RT~500℃

樣品臺表面溫度值

控溫精度

±1℃

/

磁控靶數(shù)量

3個

可獨立、可同時使用

靶材尺寸

φ2寸 厚度0.1-5mm

靶材材質不同厚度有所不同

靶基距

85~115mm可調

當距離↑增大、→厚膜均勻

性↑增高,沉積速率↓下降。

冷卻方式

水冷

冷卻水循環(huán)靶頭降溫

數(shù)

厚膜均勻性

±5%(φ100mm基片)

靶基距和轉速優(yōu)化關鍵

極限膜厚

10nm~10um

過厚易應力開裂

輸入功率

MAX:主機 500W/射頻電源 1100W/直流電源 750W

注:主機、射頻電源、直流電

源及膜厚儀均為獨立供電!

輸入電源

單相: AC220V 50/60Hz

主機尺寸

600mm×750mm×900mm

注:開蓋高度為1050mm

整機尺寸

1300m×750mm×900mm

注:開蓋高度為1050mm

整機重量

160kg

注:不含水冷機組

標準配件VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
序號名稱數(shù)量圖片鏈接
1直流電源控制系統(tǒng)2套-
2射頻電源控制系統(tǒng)1套-
3膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)1套-
4分子泵(德國進口或者國產更大抽速)1臺-
5冷水機1臺-
6聚酯PU管(?6mm)4m-
可選配件VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
序號名稱功能類別圖片鏈接
1金、銦、銀、鉑等各種靶材(可選)VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀-
2可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜(可選)-
3掩膜版(可選)-
4振動樣品臺(可選)-
5雙層旋轉鍍膜夾具(可選)VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀




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