CSC-SciDre高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐
2025-08-14
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SciDre高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐特點
● 采用垂直式光路設(shè)計
● 采用高照度短弧氙燈,多種功率規(guī)格可選
● 熔區(qū)溫度:>3000℃
● 熔區(qū)壓力:10bar/50bar/100bar/150bar/300bar等多種規(guī)格可選
● 氧氣/氬氣/氮氣/空氣/混合氣等多種氣路可選
● 采用光柵控制技術(shù),加熱功率從0-100% 連續(xù)可調(diào)
● 樣品腔可實現(xiàn)低至10-5mbar真空環(huán)境
● 豐富的可升選件
SciDre高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐技術(shù)參數(shù)
熔區(qū)溫度:高達2000 - 3000℃以上
熔區(qū)壓力:高至10、50、100、150、300 bar可選
熔區(qū)真空:1*10-2 mbar或 1*10-5 mbar可選
熔區(qū)氣氛:Ar、O2、N2等可選
氣體流量:0.25 – 1 L/min流量可控
氙燈功率:3kW至15kW可選
料棒臺尺寸:6.8mm或9.8mm可選
拉伸速率:0.1-50mm/h
調(diào)節(jié)速率:0.6 mm/s
拉伸尺寸:130mm,150mm,195mm可選
旋轉(zhuǎn)速率:0-70rpm
用電功率:400V三相 63A 50Hz
主機尺寸:330cm*163cm*92cm (不同規(guī)格略有差異)
用戶單位
中國科學(xué)院物理研究所
中國科學(xué)院固體物理研究所
北京師范大學(xué)
中山大學(xué)
南昌大學(xué)
上海大學(xué)
北京大學(xué)
北京航空航天大學(xué)
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