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硅片厚度TTV測試儀

2025-05-24

產(chǎn)      地:
暫無
所在地區(qū):
江蘇蘇州市
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硅片厚度測試的方法主要包括非接觸式光學(xué)測量技術(shù),如反射率法、干涉法和激光掃描共聚焦顯微鏡等??1。其中,反射率法是通過測量不同角度下光線的反射率變化來計算硅片厚度,而干涉法則是利用光的干涉現(xiàn)象來測量厚度,這種方法可以測量到非常薄的硅片?1。

測試原理

  1. ?反射率法?:通過測量不同角度下光線的反射率變化來計算硅片厚度。

  2. ?干涉法?:利用光的干涉現(xiàn)象來測量厚度,適用于非常薄的硅片。

  3. ?激光掃描共聚焦顯微鏡?:利用激光掃描和共聚焦技術(shù)進(jìn)行高精度的三維成像和測量。

測試標(biāo)準(zhǔn)

硅片厚度的測量通常參考國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)頒布的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),如SEMIM1、SEMIM59等?1

測試設(shè)備

硅片厚度測量儀是一種用于測量硅片厚度的設(shè)備,操作步驟包括將待測硅片放置在測量儀上,開啟儀器并調(diào)整參數(shù)進(jìn)行測量并記錄數(shù)據(jù)。維護(hù)注意事項包括定期清潔測量儀、避免碰撞或摔落,并按照說明書進(jìn)行日常維護(hù)?




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