當(dāng)前位置:珀金埃爾默企業(yè)管理(上海)有限公司>>技術(shù)文章展示
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2025
03-27采用UV-DSC8000 表征光學(xué)膠的 紫外固化過程
引言:光學(xué)粘合劑在很多不宜使用有機(jī)溶劑的行業(yè)中都有廣泛應(yīng)用。例如,半導(dǎo)體和芯片制造商不允許有機(jī)溶劑沉積在器件上。紫外光源聯(lián)用差示掃描分析儀技術(shù)(UV-DSC)可以快速分析光固化過程,并且測(cè)定固化反應(yīng)的能量。由于光引發(fā)反應(yīng)速度快且活性高,良好的溫度控制和響應(yīng)能力對(duì)于獲得準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)是必需的。功率補(bǔ)償型儀器是這類應(yīng)用的選擇。實(shí)驗(yàn)無蓋樣品盤一般可以用于UV-DSC實(shí)驗(yàn),本實(shí)驗(yàn)使用標(biāo)配石英蓋的定制DSC樣品盤。樣品首先被加熱或冷卻到恒溫溫度并達(dá)到平衡狀態(tài)。通過Pyris™軟件觸發(fā)照射到樣品表面的紫外光源快2025
03-26珀金埃爾默激光拉曼光譜的技術(shù)優(yōu)勢(shì)探討
珀金埃爾默激光拉曼光譜的技術(shù)優(yōu)勢(shì)顯著,這些優(yōu)勢(shì)使得它在多個(gè)科研和工業(yè)領(lǐng)域中成為不可少的分析工具。以下是對(duì)其技術(shù)優(yōu)勢(shì)的詳細(xì)探討:一、高精度與高分辨率珀金埃爾默激光拉曼光譜儀具備高精度和高分辨率的特性。這得益于其先進(jìn)的激光器和檢測(cè)系統(tǒng),能夠精確測(cè)量和分析拉曼散射光譜,從而揭示樣品的分子結(jié)構(gòu)和化學(xué)組成。這種高精度和高分辨率使得激光拉曼光譜在化學(xué)結(jié)構(gòu)分析、材料科學(xué)、藥物研發(fā)等領(lǐng)域具有特別的優(yōu)勢(shì)。二、快速且無損的檢測(cè)珀金埃爾默激光拉曼光譜技術(shù)是一種快速且無損的檢測(cè)方法。它無需繁瑣的樣品準(zhǔn)備過程,可直接通過2025
03-262025
03-25TMA 4000 在電子工業(yè)領(lǐng)域中使用標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法的應(yīng)用
背景:電子線路板的主要破壞原因之一是由熱膨脹引起的問題。要防止這種情況發(fā)生,電子工程師采用熱導(dǎo)體來發(fā)散熱量,用低膨脹性材料來配合低膨脹率的硅片和陶瓷絕緣體的使用。熱機(jī)械分析(TMA)長(zhǎng)期以來應(yīng)用于測(cè)量線路板、電子元件和組成材料的熱膨脹(CTE)。針對(duì)玻璃化轉(zhuǎn)變溫度、熱膨脹系數(shù)變化的點(diǎn)、樣品軟化和應(yīng)力釋放效應(yīng)的發(fā)生,已經(jīng)建立起成熟可靠的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法。對(duì)于層狀復(fù)合產(chǎn)品,TMA相應(yīng)的測(cè)試方法可以確定在評(píng)估升溫過程中材料的分層所需時(shí)間。TMA4000的設(shè)計(jì)大大簡(jiǎn)化了上述測(cè)試過程,非常適用于測(cè)量低膨脹率的2025
03-242025
03-202025
03-19NexION 5000 ICP-MS測(cè)試硝酸稀釋液中超痕 量的磷、硫、硅及碘
1.前言采用PerkinElmer的UCT技術(shù)(通用池技術(shù)),進(jìn)一步強(qiáng)化DRC(動(dòng)態(tài)反應(yīng)池)功能的NexION5000ICP-MS是目前既先進(jìn),性能優(yōu)異的,市面上多重四級(jí)桿ICP-MS(QQQQ)。不僅用于控制多原子干擾,還有比其他串接四級(jí)桿更強(qiáng)大的質(zhì)量轉(zhuǎn)移分析功能,適用于特殊的應(yīng)用。本應(yīng)用利用NexION5000QQQQ-ICP-MS,確認(rèn)在硝酸介質(zhì)中磷、硫、硅、氯、砷、硒、溴、碘等非金屬性元素的檢測(cè)能力。上述元素的檢測(cè)在普通ICP-MS系統(tǒng)中比較困難,因?yàn)槿ルx子水和硝酸稀釋液中的氮、氧、碳成2025
03-18利用NexION 2000 ICP-MS對(duì)半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中的雜質(zhì)進(jìn)行分析
引言在半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)過程中,許多流程中都要用到各種酸類試劑。其中最重要的是鹽酸(HCl),其主要用途是與過氧化氫和水配制成混合物用來清潔硅晶片的表面。由于半導(dǎo)體設(shè)備尺寸不斷縮小,其生產(chǎn)中使用的試劑純度變得越來越重要,這是因?yàn)榧词故巧倭侩s質(zhì)也會(huì)導(dǎo)致設(shè)備的失效。國(guó)際SEMI標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的是金屬雜質(zhì)的最大濃度(SEMI標(biāo)準(zhǔn)C27-07081用于鹽酸),而半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)商對(duì)雜質(zhì)濃度的要求往往更加嚴(yán)格,這樣就給試劑供應(yīng)商帶來了更大的挑戰(zhàn)。其結(jié)果是,分析儀器也必須能夠?qū)Ω蜐舛鹊碾s質(zhì)成分精確檢測(cè)。電感耦合等2025
03-17如何進(jìn)行PerkinElmer紫外分光光度計(jì)的日常維護(hù)?
進(jìn)行PerkinElmer紫外分光光度計(jì)的日常維護(hù),是確保其長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行和準(zhǔn)確測(cè)量的關(guān)鍵。以下是一些具體的日常維護(hù)步驟和建議:一、清潔與除塵1.外部清潔:定期用干凈的軟布擦拭儀器表面,去除塵土和污漬。注意避免使用有腐蝕性的清潔劑或粗糙的布料,以免損傷儀器表面。2.內(nèi)部清潔:按照說明書的要求,定期清理反射鏡、透鏡、密封條等光學(xué)元件。使用專業(yè)的擦紙擦拭,避免用手直接接觸。污染嚴(yán)重的光學(xué)元件應(yīng)及時(shí)更換。3.防塵措施:使用后,用防塵罩覆蓋整個(gè)儀器,并放置在陰涼干燥的地方。定期更換干燥劑,以避免單色器盒的2025
03-17利用單顆粒ICP-MS在反應(yīng)模式下測(cè)定半導(dǎo)體有機(jī)溶劑中的 含鐵納米顆粒
簡(jiǎn)介半導(dǎo)體產(chǎn)品中的金屬污染使產(chǎn)品品質(zhì)降低。半導(dǎo)體寬度越小,對(duì)金屬污染物的容忍度越低。最常見的金屬污染是過渡金屬元素和堿金屬元素。過渡金屬元素往往遍布半導(dǎo)體材料中并在表面形成多多種氧化物,其中鐵是最常見的污染物。單顆粒ICP-MS已成為納米顆粒分析的一種常規(guī)手段,采用不同的進(jìn)樣系統(tǒng),能在100-1000顆粒數(shù)每毫升的極低濃度下對(duì)納米顆粒進(jìn)行檢測(cè)、計(jì)數(shù)和表征。除了顆粒信息,單顆粒ICP-MS還可以在未經(jīng)前級(jí)分離的情況下檢測(cè)溶解態(tài)元素濃度1。許多文獻(xiàn)表明單顆粒ICP-MS可以在各種基質(zhì)條件下對(duì)納米顆粒2025
03-14NexION 300S ICP-MS測(cè)定硅晶 片中的雜質(zhì)
引言控制硅基半導(dǎo)體器件中的雜質(zhì)含量是至關(guān)重要的,因?yàn)榧词故浅哿康碾s質(zhì)(包括堿和堿土元素、過渡金屬)都可能會(huì)導(dǎo)致器件發(fā)生缺陷,如擊穿電壓或高暗電流。出于質(zhì)量控制的目的,常規(guī)分析的硅主要有兩種類型:體硅和硅晶片表面。對(duì)體硅的分析可以使用一種非常強(qiáng)的酸將硅消解,如氫氟酸(HF)。硅晶片表面的分析常用的方法是氣相分解,包括使用極少量的酸(通常是HF)滴一滴在表面收集晶圓表面上的雜質(zhì)。這樣得到的樣品體積通常約為200μL。體硅的分析不存在樣品體積的問題,但是為了盡量減少樣品前處理耗費(fèi)的時(shí)間,還是需要較小2025
03-13NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硝酸中的雜質(zhì)
引言目前,由于半導(dǎo)體器件在設(shè)計(jì)時(shí)都選擇更小的線寬,因此就更容易受到低濃度雜質(zhì)的影響。在半導(dǎo)體工業(yè)中,硝酸(HNO3)被廣泛用來與氫氟酸(HF)配制混酸,改變限擴(kuò)散或限速率的蝕刻。這兩種酸配成的混酸常被用于蝕刻和在前端處理中暴露臨界層。在這一階段,實(shí)際的設(shè)備(包括晶體管和電阻器)被創(chuàng)建。一個(gè)典型的前端處理主要包括以下幾個(gè)步驟:晶片表面的制備、二氧化硅(SiO2)的增長(zhǎng)、模式化和后續(xù)注入或擴(kuò)散添加劑以獲得所需的電性能、柵介質(zhì)的增長(zhǎng)或沉積,以及蝕刻。任何金屬雜質(zhì)的存在都將對(duì)IC器件的可靠性產(chǎn)生不利影響2025
03-12NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硫酸中的雜質(zhì)
前言制造半導(dǎo)體器件包括在基板上形成一個(gè)犧牲層。通常,犧牲層由一個(gè)圖形化的光阻層組成,這樣就可以使離子注入基板,之后再用一種濕式蝕刻溶液來消除圖形化的光阻層。通常情況下,蝕刻液由硫酸(H2SO4)和過氧化氫(H2O2)配制而成,也被稱為食人魚或臭氧硫酸。由于是與其他化學(xué)物質(zhì)一起使用的,任何金屬雜質(zhì)的引入都將會(huì)對(duì)IC器件的可靠性產(chǎn)生不利影響,因此需要使用的硫酸具有高純度和高質(zhì)量。SEMI標(biāo)準(zhǔn)C44-0708對(duì)硫酸中的金屬污染物按元素和等級(jí)規(guī)定了最大允許濃度。由于具有快速測(cè)定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度2025
03-12珀金埃爾默紫外分光光度計(jì)的功能多樣性優(yōu)勢(shì)
珀金埃爾默紫外分光光度計(jì)的功能多樣性優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:一、廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域珀金埃爾默紫外分光光度計(jì)適用于多個(gè)領(lǐng)域,包括但不限于食品、生物產(chǎn)業(yè)、制藥等。其出色的性能和靈活性使得它能夠滿足這些領(lǐng)域中各種復(fù)雜樣品的分析需求。二、多樣的型號(hào)與配置珀金埃爾默提供了多種型號(hào)的紫外分光光度計(jì),這些型號(hào)在光譜范圍、帶寬、波長(zhǎng)精度等方面具有不同的特點(diǎn),可滿足不同用戶的具體需求。此外,這些儀器還可以配備各種靈活的采樣附件,如積分球、反射附件、透射附件等,進(jìn)一步擴(kuò)展了它們的應(yīng)用范圍。三、高性能的測(cè)試能力紫外分2025
03-11NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體 級(jí)TMAH中的雜質(zhì)
前言:四甲基氫氧化銨(TMAH)是一種廣泛用于半導(dǎo)體光刻工藝和液晶顯示器(LCD)生產(chǎn)中形成酸性光阻的基本溶劑。由于其在此類高要求應(yīng)用中的廣泛使用,使得對(duì)TMAH純度的檢測(cè)變得越來越重要。SEMI標(biāo)準(zhǔn)C46-03061規(guī)定濃度為25%的TMAH溶液中各元素污染物低于100ppb。然而,通常使用的都不是TMAH的濃溶液,實(shí)際上使用的TMAH溶液濃度絕大多數(shù)都在1-3%之間。由于具有快速測(cè)定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度(ng/L或萬億分之)待測(cè)元素的能力,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)已成為了2025
03-10FT-IR自動(dòng)分析系統(tǒng)測(cè)量硅晶圓中的元素雜質(zhì)
引言隨著半導(dǎo)體需求的增加,特別是消費(fèi)電子產(chǎn)品、汽車以及日益增長(zhǎng)的太陽能發(fā)電行業(yè)中硅器件的使用,硅晶圓的產(chǎn)量預(yù)計(jì)在未來幾年將出現(xiàn)高速增長(zhǎng)。硅晶圓的生產(chǎn)目前采用了多種工藝,最常見的兩種是FloatZone(FZ)和Czochralski(CZ)工藝。FZ工藝可以生產(chǎn)高純度硅晶圓,而CZ工藝生產(chǎn)的晶圓相對(duì)來說含有更多的元素雜質(zhì)(特別是碳和氧)。然而,與FZ工藝相比,CZ工藝具有一些重要優(yōu)勢(shì),如更好的熱應(yīng)力特性、制造速度更快、成本更低等。此外,氧雜質(zhì)的存在有一個(gè)好處,可起到吸氣劑的作用,可以去除微量金屬2025
03-07Avio 200 ICP-OES微波制樣方案滿足危害性物質(zhì) 限制(RoHS)指令要求
簡(jiǎn)介隨著人們對(duì)電子產(chǎn)品的依賴程度越來越高,各大廠商開始不斷開發(fā)具有新功能的產(chǎn)品,這使得消費(fèi)者日趨頻繁地對(duì)電子產(chǎn)品進(jìn)行更新?lián)Q代,電子產(chǎn)品的壽命也變得越來越短,而這也導(dǎo)致需要處理的廢棄電子產(chǎn)品數(shù)量不斷上升,盡管人們已經(jīng)開始實(shí)施并大力推廣電子產(chǎn)品回收計(jì)劃。電子產(chǎn)品中包含許多組件,一旦被丟棄,產(chǎn)品中的金屬極可能會(huì)進(jìn)入環(huán)境中。其中最令人擔(dān)憂的有毒金屬包括鎘(Cd)、鉻(Cr,主要是六價(jià)鉻[CrVI])、汞(Hg)和鉛(Pb)。為了解決這一問題,危害性物質(zhì)限制(RoHS)指令規(guī)定了鎘、六價(jià)鉻、汞和鉛在每種電2025
03-062025
03-05利用TurboMatrix HS 進(jìn)樣器分析變壓器油中的溶解氣體
世界上近90%的人不了解電力沒有普及的生。這是每天都被大多數(shù)人視為理所當(dāng)然的奢侈享受。當(dāng)供電中斷時(shí),恐慌通常會(huì)接踵而至,正如2019年7月13日曼哈頓全城停電中所目睹的那樣,7.3萬多人因斷電數(shù)小時(shí)陷入黑暗中。盡管此次事件未有人員傷亡的報(bào)告,有許多關(guān)于此類大規(guī)模停電后造成混發(fā)生,變壓器必須亂和安全隱患的報(bào)道,尤其是發(fā)生在這樣一個(gè)大都會(huì)城市中。為防止此類電力中斷事件的妥當(dāng)維護(hù)和監(jiān)控。以減少停電發(fā)生為目標(biāo)進(jìn)行常規(guī)監(jiān)控的有效手段包括對(duì)變壓器絕緣油進(jìn)行分析。電力變壓器中的絕緣油的作用既可作為絕緣體又可作2025
03-05TGA 8000 熱重分析儀應(yīng)用領(lǐng)域與特點(diǎn)
TGA8000熱重分析儀典型應(yīng)用舉例?監(jiān)控環(huán)氧樹脂等材料的固化過程?粉末、凝膠以及低粘度材料直接測(cè)試?高聚物泡沫材料、面包、肉塊和糖果等天然高分子材料的測(cè)試?紙張、天然纖維和食品等濕度敏感材料的研究?增塑劑對(duì)尼龍和聚氨酯等材料玻璃化轉(zhuǎn)變過程的影響DMA8000使之成為材料研究開發(fā)和生產(chǎn)線質(zhì)量控制的的創(chuàng)新型設(shè)計(jì),高效靈活的操作理想儀器。?自由旋轉(zhuǎn)的測(cè)試頭,可在任何合適的方位進(jìn)行裝樣測(cè)試?降溫迅速且節(jié)省液氮消耗?可拓展流體浴配件?可選配濕度發(fā)生器?珀金埃爾默Pyris熱分析軟件系統(tǒng),功能強(qiáng)大,使用方以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé),化工儀器網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
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