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2025
07-222025
07-222025
07-162025
06-242025
06-182025
06-172025
05-30直流磁控濺射儀在科學研究和工業(yè)應用中發(fā)揮著重要的作用
直流磁控濺射儀是一種基于磁場與直流電場協(xié)同作用實現(xiàn)金屬薄膜快速沉積的表面鍍膜設備,直流磁控濺射儀主要用于在真空室內(nèi)通過直流電源施加電壓,使氬氣電離,產(chǎn)生的氬離子轟擊靶材,使靶材表面的原子或分子沉積在基片上形成薄膜??。直流濺射磁控儀的優(yōu)點包括基片升溫低、沉積速率快、膜層損傷小等。只要能把材料制成靶材,都可以使用直流濺射磁控儀進行濺射鍍膜。同時,濺射所制備的薄膜在膜基結合力、致密性、純度和成膜均勻性等方面都有良好的表現(xiàn)。此外,它的制備工藝具有很好的重復性和厚度均勻性,適用于大面積制備薄膜,且涂層的2025
05-272025
05-212025
04-09真空旋轉涂膜機是一種利用真空環(huán)境與旋轉離心力相結合實現(xiàn)薄膜均勻涂覆的高精度設備
真空旋轉涂膜機主要應用于大專院校、科研院所的實驗室中,用于薄膜的生成過程。它適用于各種科研和工業(yè)應用,特別是在半導體工藝和納米制造中?。此外,該設備還廣泛應用于材料科學、微電子學、光學、生物醫(yī)學等領域。真空旋轉涂膜機是一種利用真空環(huán)境與旋轉離心力相結合,實現(xiàn)薄膜均勻涂覆的高精度設備,廣泛應用于半導體、光學、材料科學等領域。??真空旋轉涂膜機主要用于在實驗室中制備均勻、薄且高質量的薄膜。?它通過高速旋轉基片,利用離心力將膠液均勻地涂覆在基片上,適用于各種科研和工業(yè)應用,特別是在半導體工藝和納米制造2025
03-062025
02-172025
01-162024
12-252024
11-282024
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09-262024
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