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2023
09-06

近紅外拉曼光譜的優(yōu)點(diǎn)有哪些
拉曼光譜由一個(gè)波長或頻譜組成，它對(duì)應(yīng)于輻照“拉曼活性”材料產(chǎn)生的非彈性(拉曼)光子信號(hào)。材料的拉曼輻照通常使用單頻激光。由拉曼相互作用產(chǎn)生的拉曼指紋譜可以通過適當(dāng)?shù)奶綔y器散射和接收的頻率來確定。光譜通常被“數(shù)字化”，并在進(jìn)行分析時(shí)與參考樣品或參考物質(zhì)光譜進(jìn)行數(shù)字匹配。今天有了許多“商用現(xiàn)貨”組件，拉曼光譜和熒光光譜等弱強(qiáng)度效應(yīng)可以用于許多分析應(yīng)用。拉曼測量的實(shí)驗(yàn)限制之一是光譜儀本身。特別是在拉曼光譜中，攜帶被分析物所需“信息”的光信號(hào)非常微弱，在測量時(shí)需要特別注意。光譜學(xué)是研究相互作用強(qiáng)度與波的
2023
09-05

近紅外至中紅外可調(diào)諧激光器選型方案
近紅外至中紅外可調(diào)諧激光器選型方案本文旨在討論在選用近紅外至中紅外光源時(shí)一些注意事項(xiàng)和方案建議。不同光譜范圍定義通常而言，人們談起紅外光源，指的是真空波長大于~700–800nm（可見波長范圍的上限）的光。該描述中沒有明確定義具體波長下限是因?yàn)槿搜蹖?duì)于對(duì)于紅外感是緩慢降低，而非斷崖式截止。比如人眼響應(yīng)度例如在700nm處已經(jīng)非常低，但是如果光足夠強(qiáng)，人眼甚至可以看到波長超過750nm的某些激光二極管發(fā)出的光，這也使得紅外激光存在安全風(fēng)險(xiǎn)--即使人眼感覺不是很亮，其實(shí)際功率卻可能已經(jīng)很高。同樣，和
2023
09-05

DMD空間光調(diào)制器V-7001VIS介紹
DMDV-7001VISDMD(DigitalMicromirrorDevice,譯為：數(shù)字微鏡陣列)是一款具有高分辨率、高對(duì)比度、高亮度以及高灰階及色彩保真度、響應(yīng)速度快且可靠性高等顯著優(yōu)點(diǎn)的光機(jī)電產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用在光場調(diào)控、三維測量、超分辨成像等領(lǐng)域。為了更好的服務(wù)以及加深與國內(nèi)客戶的合作，對(duì)于V-7001VIS特定型號(hào)的DMD產(chǎn)品。圖1V-7001VISDMD產(chǎn)品圖示超高速V-7001VISDMD空間光調(diào)制器產(chǎn)品集成了德州儀器TIDLPDiscovery4100芯片組，8GB片上內(nèi)存和高速U
2023
09-05

光頻梳的應(yīng)用與未來前景
光頻梳的應(yīng)用與未來前景介紹光頻梳是一種特殊的超短脈沖激光器，類似于光的尺子，可將無線電和微波頻率與光波頻率連接起來。目前已經(jīng)在光鐘計(jì)時(shí)、天文學(xué)和宇宙學(xué)、精確測量、氣體分析、醫(yī)學(xué)診斷等方面有眾多應(yīng)用。在未來的時(shí)間里，科學(xué)家和他們的合作者也將繼續(xù)探索各類光頻梳的巨大潛力。正文光頻梳是一種特殊的超短脈沖激光器，其類似于光的尺子，能夠快速而準(zhǔn)確地測量光的頻率。這樣一種獲得諾貝爾獎(jiǎng)的設(shè)備填bu了一個(gè)重要的技術(shù)空白——科學(xué)家能夠像處理無線電波一樣測量和控制光波。借助光頻梳，科學(xué)家們可以將無線電和微波頻率與頻
2023
08-28

常見濾光片的基本參數(shù)
干涉濾光片利用真空鍍膜的方法，在玻璃表面鍍上一層具有特定厚度的多層光學(xué)薄膜，利用干涉原理讓特定波段范圍內(nèi)的光通過。常用的干涉濾光片有帶通濾光片、長通濾光片、短通濾光片、二向色濾光片等，常用于顯微鏡、光譜學(xué)、化學(xué)分析和機(jī)器視覺。(1)帶通濾光片：指只能讓某個(gè)特定波長或波段的光通過，通帶以外的光不能通過。通常通帶寬度小于30納米的為窄帶濾光片，通帶寬度大于60納米的為寬帶濾光片。(2)長通與短通濾光片：在膜系接受光譜范圍內(nèi)，管溝被分為兩部分，一部分都可以通過，另一部分則都不可以通過。長通指長波方向是
2023
08-22

焦點(diǎn)光斑分析儀的選型指南：激光3D打印應(yīng)用領(lǐng)域（SLA&SLM）
焦點(diǎn)光斑分析儀的選型指南：激光3D打印應(yīng)用領(lǐng)域（SLA&SLM）為了使用基于激光的增材制造工藝創(chuàng)造出一致的、堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)，以滿足航空航天標(biāo)準(zhǔn)或醫(yī)療設(shè)備的FDA要求，需要已知尺寸、功率密度和焦點(diǎn)位置的激光束是必需的。高質(zhì)量的3D激光打印工藝需要激光器提供正確的功率，正確分布并集中在正確的位置。為了確保部件的一致性和結(jié)構(gòu)的合理性，這些參數(shù)應(yīng)該在制造任何關(guān)鍵部件前后可以直接測量，極大地幫助光學(xué)工程師分析設(shè)備光路中產(chǎn)生的各種問題。德國Cinogy焦點(diǎn)光斑分析儀是基于相機(jī)式原理測量光斑形狀，分析光斑數(shù)據(jù)；相
2023
08-22

鉺激光在牙科中的應(yīng)用簡介
鉺激光在牙科中的應(yīng)用簡介摻鉺釔鋁石榴石（Er：YAG）激光的特點(diǎn)即是其2940nm的波長，而牙體組織中的牙釉質(zhì)和牙本質(zhì)的主要組成成分羥基磷灰石晶體的吸收峰剛好與之相接近，同樣還有牙體組織中的水，鉺激光波長也位于其最高吸收峰。健康的牙釉質(zhì)是高度礦化組織，含85%的羥基磷灰石、3%的有機(jī)物和12%的水。牙本質(zhì)中礦物含量降低，無機(jī)物、有機(jī)物、水的含量約為50%、30%、20%。相較于其他激光，鉺激光穿透能力低。Er:YAG激光對(duì)牙釉質(zhì)和牙本質(zhì)穿透深度為5~7μm。由于水對(duì)鉺激光的吸收系數(shù)很大，周圍組織
2023
07-31

示波器的基本工作原理
示波器是物理實(shí)驗(yàn)室中非常常見的實(shí)驗(yàn)測量儀器，利用示波器能觀察各種不同信號(hào)幅度隨時(shí)間變化的波形曲線，還可以用它測試各種不同的電量，如電壓、電流、頻率、相位差、調(diào)幅度等等。一般示波器的結(jié)構(gòu)組成大概分為五組：①顯示電路、②垂直(Y軸)放大電路、③水平(X軸)放大電路、④掃描與同步電路、⑤電源供給電路。其方框圖大致如下圖：圖1：示波器的原理功能示意圖示波器工作原理：以下針對(duì)圖1中所示的五個(gè)工作部分分別介紹。1.顯示電路顯示電路包括示波管及其控制電路兩個(gè)部分。示波管是一種特殊的電子管，是示波器一個(gè)重要組成
2023
07-13

DMD空間光調(diào)制器V-7001VIS (九折優(yōu)惠)
DMDV-7001VIS(限shi九折優(yōu)惠)-來了！DMD(DigitalMicromirrorDevice,譯為：數(shù)字微鏡陣列)是一款具有高分辨率、高對(duì)比度、高亮度以及高灰階及色彩保真度、響應(yīng)速度快且可靠性高等顯著優(yōu)點(diǎn)的光機(jī)電產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用在光場調(diào)控、三維測量、超分辨成像等領(lǐng)域。為了更好的服務(wù)以及加深與國內(nèi)客戶的合作，對(duì)于V-7001VIS特定型號(hào)的DMD產(chǎn)品，昊量光電推出“限shi九折優(yōu)惠“服務(wù)。(7月1-9月30日)圖1V-7001VISDMD產(chǎn)品圖示超高速V-7001VISDMD空間光調(diào)
2023
07-12

M-axis永磁體特性全新表征方法-高精度磁偏角磁矩快速確定！
M-axis永磁體特性全新表征方法-高精度磁偏角磁矩快速確定！永磁體廣泛用于傳感器和電機(jī)應(yīng)用。除此之外，磁場還用于信息存儲(chǔ)和文件欺詐保護(hù)等應(yīng)用。隨著關(guān)鍵應(yīng)用程序數(shù)量的持續(xù)增加，開發(fā)商和生產(chǎn)商越來越被迫滿足安全要求，并提高技術(shù)的整體效率。為了確保zui終用戶要求的高質(zhì)量，全面的質(zhì)量控制是必要的。根據(jù)應(yīng)用，測量遠(yuǎn)場和近場的磁鐵是可能的，而且通常是必要的。在這篇文章中，我將介紹一種新的創(chuàng)新測量技術(shù)，通過雜散場測量和偶極子近似來表征遠(yuǎn)場中的磁體。昊量光電全新推出的M-axis磁偏角磁矩測試儀就是這種測量
2023
07-12

COMS-Magview-磁場相機(jī)背后的秘密-磁光傳感器！
COMS-Magview-磁場相機(jī)背后的秘密-磁光傳感器！磁性材料的可靠使用需要精確的磁場分布信息，例如在生產(chǎn)過程中、作為質(zhì)量管理過程的一部分以及在研發(fā)領(lǐng)域中。磁光傳感器是無損檢測磁場分布的新方法。圖1.此圖代表不同階段的磁光傳感器：初始基板、涂有MO和反射層（從左到右）現(xiàn)有磁場測量系統(tǒng)的原理基于磁場對(duì)傳感器內(nèi)電壓和電流等電學(xué)參數(shù)產(chǎn)生不同物理效應(yīng)。通過測量值和特定材料常數(shù)，可以分析磁場強(qiáng)度和通量密度。例如，在霍爾傳感器中，導(dǎo)電材料（如半導(dǎo)體材料）的霍爾效應(yīng)會(huì)產(chǎn)生一個(gè)輸出電壓——霍爾電壓——其與磁
2023
07-12

高功率多波段UV-LED點(diǎn)光源
高功率多波段UV-LED點(diǎn)光源---光波導(dǎo)傳輸，光固化等應(yīng)用昊量光電新推出用于紫外光固化工藝的模塊化光譜組合的高功率多波段UV-LED點(diǎn)光源。模塊化理念，基于UV-LED技術(shù)、VIS-LED技術(shù)和NIR-LED技術(shù)，高功率多波段UV-LED點(diǎn)光源可以把365nm-1050nm間1-5個(gè)LED模塊集成到一臺(tái)光引擎中，實(shí)現(xiàn)光譜組分的靈活定制，具有優(yōu)良的光固化能力。這款高功率多波段UV-LED點(diǎn)光源采用觸屏設(shè)置，操作簡單，且具有非常穩(wěn)定的輸出和很長的使用壽命，廣泛的應(yīng)用在汽車自動(dòng)化裝配、醫(yī)療以及半導(dǎo)體
2023
06-21

【應(yīng)用案例】Moku:Pro簡化雙色受激拉曼散射顯微鏡實(shí)驗(yàn)
【應(yīng)用案例】Moku:Pro簡化雙色受激拉曼散射顯微鏡實(shí)驗(yàn)應(yīng)用案例Moku:Pro簡化雙色受激拉曼散射顯微鏡實(shí)驗(yàn)介紹在華盛頓大學(xué),研究人員致力于雙色受激拉曼散射(SRS)顯微鏡技術(shù)研究開發(fā)化學(xué)成像工具，用于早期癌癥檢測和了解神經(jīng)退行性疾病進(jìn)展。實(shí)驗(yàn)裝置通常包括多個(gè)復(fù)雜的高性能儀器,用于實(shí)時(shí)雙色SRS成像或兩個(gè)相距較遠(yuǎn)的拉曼躍遷的同步成像。現(xiàn)在，他們正在使用Moku:Pro鎖相放大器和多儀器并行模式，僅通過Moku:Pro一臺(tái)緊湊的多通道設(shè)備進(jìn)行多種實(shí)驗(yàn)并捕捉低強(qiáng)度的SRS信號(hào)。面臨挑戰(zhàn)SRS是一
2023
06-12

Moku云編譯 + ChatGPT: 客戶定制化需求的天花板
Moku云編譯+ChatGPT:客戶定制化需求的天花板Moku：pro不僅能夠解決大多數(shù)電學(xué)信號(hào)的測試和ji具難度的測量實(shí)驗(yàn)，而且能夠支持jian端實(shí)驗(yàn)，并能在設(shè)計(jì)具有du特要求的先jin產(chǎn)品時(shí)，具有優(yōu)xiu的表現(xiàn)?？茖W(xué)家和工程師們經(jīng)常會(huì)在軟件中進(jìn)行方便的離線模擬或數(shù)據(jù)處理，此時(shí)他們會(huì)通過用戶可編程FPGA找到更高性能的解決方案。然而，盡管它們很有用，但這些解決方案有時(shí)候也會(huì)很復(fù)雜且難以實(shí)現(xiàn)。MokuCloudCompile(MCC)云編譯為熟悉FPGA編程的用戶xiao除了這些障礙，使他們能夠
2023
06-08

透射光學(xué)材料的介紹
光學(xué)成像要通過光學(xué)零件的折射和反射來實(shí)現(xiàn)，決定一種材料能否用來制造光學(xué)零件，要看它對(duì)要求成像的波段是否透明，或者在反射的情況下是否具有足夠高的反射率。對(duì)于透射光學(xué)零件來說，透射材料的特性除了透過率之外，還有它對(duì)各種特征譜線的折射率，其中以D或d線的折射率nD或nd以及F線和C線的折射率差nF-nc作為其主要的光學(xué)性能參數(shù)，這是因?yàn)镕線和C線接近人眼光譜靈敏極限的兩端，而D線或d線在其中間，接近人眼靈敏的波長，nd稱為平均折射率，nF-nc稱為平均色散。此外，將?d=(nd-1)/(nF-nc)稱
2023
05-29

鎖模激光器的原理
在一個(gè)簡單的激光器中，每一個(gè)模式都獨(dú)立地振蕩，彼此之間沒有固定的關(guān)系，本質(zhì)上就像一組獨(dú)立的激光器，它們都以略微不同的頻率發(fā)光。每種模式中光波的各個(gè)相位都不是固定的，可能會(huì)因激光器材料的熱變化等因素而隨機(jī)變化。在只有少數(shù)振蕩模式的激光器中，模式之間的干擾會(huì)導(dǎo)致激光輸出中的拍頻效應(yīng)，導(dǎo)致強(qiáng)度波動(dòng)；在具有數(shù)千個(gè)模式的激光器中，這些干擾效應(yīng)趨于平均到接近恒定的輸出強(qiáng)度。如果不是獨(dú)立振蕩，而是每個(gè)模式運(yùn)行時(shí)與其他模式之間保持固定的相位差，則激光輸出的行為會(huì)截然不同。激光模式將周期性地相互干涉，而不是隨機(jī)或
2023
05-22

點(diǎn)衍射干涉儀的精度檢驗(yàn)方法
點(diǎn)衍射干涉儀的精度檢驗(yàn)方法點(diǎn)衍射干涉儀（PointDiffractionInterferometer，PDI）是一種基于衍射干涉原理的光學(xué)測量設(shè)備。它利用激光束小孔后產(chǎn)生接近理想的點(diǎn)光源對(duì)物體表面進(jìn)行測量，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)物體形狀、表面粗糙度、折射率等參數(shù)的高精度測量。點(diǎn)衍射干涉儀不需要標(biāo)準(zhǔn)參考件，可以用于超高精度面型的檢測，是一種非常重要的高精度測量儀器。1.1測試光路測試系統(tǒng)主要由D7點(diǎn)衍射干涉儀主機(jī)，準(zhǔn)直器，5mm口徑鋁鏡，光學(xué)平臺(tái)等構(gòu)成。1.2測試環(huán)境溫度：21℃±1℃；濕度：30%-70%1
2023
04-27

Up to 98%光利用率—鍍介質(zhì)鏡型純相位高速高損傷閾值SLM!
Upto98%光利用率——鍍介質(zhì)鏡型純相位高速高損傷閾值SLM！液晶空間光調(diào)制器（SLM）可以將數(shù)字化數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為適合各種應(yīng)用的相干光學(xué)信息，包括雙光子/三光子顯微成像、光鑷、自適應(yīng)光學(xué)、湍流模擬、光計(jì)算、光遺傳學(xué)和散射介質(zhì)成像等應(yīng)用。這些應(yīng)用需要能夠輕松快速地改變相干光束波前的調(diào)制器。通過將液晶材料的電光性能特征與基于硅的數(shù)字電路相結(jié)合，MeadowlarkOptics現(xiàn)在提供了高分辨率的SLM，這些SLM還具有物理緊湊性和高光學(xué)xiao率。圖一：緊湊的HSP1K（1024×1024）系列和E1
2023
04-17

膜厚測量儀的應(yīng)用場景
膜厚測量儀主要采用了X射線熒光光譜技術(shù)（XRF技術(shù)），通過發(fā)射出的X射線來對(duì)材料內(nèi)部的分子結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析，從而得到材料的厚度和組成。X射線通過材料后，與材料中的元素反應(yīng)并產(chǎn)生熒光信號(hào)，該熒光信號(hào)的波長和強(qiáng)度反映了樣品中的元素種類和含量。通過這種方式來測量薄膜的厚度以及成分。應(yīng)用場景：1、半導(dǎo)體加工在半導(dǎo)體制造業(yè)中，不同工藝步驟所涉及的膜厚以及成分都不同，需要采用高靈敏度的儀器來進(jìn)行檢測。膜厚測量儀能夠精確測量超薄膜，對(duì)后續(xù)工序制定提供參考。2、金屬材料檢測在金屬材料制造業(yè)中，需要對(duì)金屬表面的薄膜進(jìn)
2023
04-17

膜厚測量儀的應(yīng)用與優(yōu)勢
概述：膜厚測量儀是一種用于測量材料薄膜厚度的儀器。本文將詳細(xì)介紹膜厚測量儀的應(yīng)用領(lǐng)域、優(yōu)勢及其在相應(yīng)領(lǐng)域中的具體應(yīng)用。應(yīng)用領(lǐng)域：1.微電子器件制造在微電子器件的制造領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用。在電子器件的制造過程中，需要進(jìn)行多層薄膜與特殊材料的沉積和加工，精確的膜厚度測量對(duì)于保證器件性能和可靠性至關(guān)重要。膜厚測量儀可以對(duì)薄膜進(jìn)行高精度的測量和控制，提高了晶圓和芯片的制備效率。2.材料科學(xué)研究在材料科學(xué)研究領(lǐng)域中也得到了廣泛的應(yīng)用。材料的薄膜厚度是材料性能的一個(gè)重要因素，膜厚測量儀是研究材料性質(zhì)、結(jié)構(gòu)和功

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