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2021
08-17用 STX-100QX 金剛石曲線切割機(jī)切割炭纖維復(fù)合材料及玻璃
用STX-100QX金剛石曲線切割機(jī)切割炭纖維復(fù)合材料及玻璃STX-100QX金剛石曲線切割機(jī)形貌如圖一所示:圖一金剛石曲線切割機(jī)形貌圖由科晶設(shè)計(jì)研發(fā)的金剛石曲線切割機(jī),是我公司*使用金剛石線對(duì)非金屬及金屬材料進(jìn)行曲線切割的設(shè)備。該設(shè)備可通過(guò)編程設(shè)置切割形狀,然后金剛石線按程序所設(shè)置的路徑行走,從而切割出各種不同的形狀。該設(shè)備有效解決了一些難加工材料曲線切割的難題,如陶瓷材料、晶體材料、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、熱電材料(如碲化鉍,碲化鉛、硅鍺合金等)、玻璃、巖樣、玉石、P2021
08-162021
08-13檸檬酸對(duì)聚合物前驅(qū)體法制備 WO3 薄膜光電性質(zhì)的影響
檸檬酸對(duì)聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜光電性質(zhì)的影響摘要:以偏鎢酸銨為鎢源,檸檬酸為絡(luò)合劑,聚乙二醇(PEG)為聚合物合成前驅(qū)體溶膠,并用浸漬提拉法在FTO導(dǎo)電玻璃上制備了WO3薄膜,研究配位劑檸檬酸對(duì)聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜結(jié)構(gòu)和光電性質(zhì)的影響。采用X線衍射、拉曼光譜和場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡等手段研究薄膜的相組成及表面形貌,借助標(biāo)準(zhǔn)三電極體系進(jìn)行了光電化學(xué)測(cè)試,并進(jìn)一步討論了檸檬酸對(duì)WO3薄膜光電性能影響機(jī)理。結(jié)果表明:CA和W摩爾比為0,0.5,1.0和2.0條件下薄膜表面顆粒平均尺寸分別為60,2021
08-12經(jīng)典實(shí)驗(yàn)-陶瓷/玻璃-使用超聲分篩機(jī)分篩粉末
問(wèn)題來(lái)源:球磨是大多高??蒲性簻p少樣品粒徑的主流方式,但是球磨之后球與粉難于分離,且大多數(shù)粉末會(huì)產(chǎn)生團(tuán)聚,分篩時(shí)難通過(guò)篩網(wǎng)的孔洞。為此科晶推出小型超聲分篩系統(tǒng)可很好的解決以上問(wèn)題。解決辦法:用小型超聲篩分系統(tǒng),在分篩過(guò)程中加入超聲震動(dòng)。試驗(yàn)案例:超聲波分篩機(jī)分篩球研磨粉末樣品試驗(yàn)簡(jiǎn)述:將球磨后的樣品放入分篩機(jī)中,配合不同目數(shù)分篩網(wǎng),篩分樣品。第一步:分散樣品第二步:球與球之間碰撞,將粘在球上的粉料撞擊下來(lái)實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下:球磨后樣品分篩結(jié)果:分篩機(jī)篩網(wǎng)機(jī)構(gòu)介紹應(yīng)用技術(shù)總結(jié):1.分篩過(guò)程可根據(jù)需求放置2021
08-11真空鍍膜技術(shù)的原理在各大行業(yè)里的應(yīng)用
1、真空鍍膜機(jī)PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫(xiě),中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。2、真空鍍膜機(jī)PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類,相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來(lái),真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的,它已經(jīng)成為當(dāng)今的表面處理方式之一。我們通常所說(shuō)的2021
08-102021
08-092021
08-062021
08-052021
08-042021
08-03等離子鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法
等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),等離子鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn),可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)2021
08-022021
07-302021
07-292021
07-292021
07-292021
07-292021
07-282021
07-282021
07-28小型真空管式爐優(yōu)點(diǎn)之多,缺點(diǎn)也有
小型真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測(cè)定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。采用先進(jìn)技術(shù)研制開(kāi)發(fā)的高性能高節(jié)能的新型電爐,有單管、雙管、臥式、可開(kāi)啟式、立式、單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等多種管式爐型。具有安全可靠、操作簡(jiǎn)單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。真空管式爐優(yōu)點(diǎn)之多,缺點(diǎn)也有,不過(guò)相對(duì)于其優(yōu)點(diǎn)繁多,缺點(diǎn)似乎沒(méi)那么重要了。小型真空管式爐優(yōu)點(diǎn):1.工藝成熟;2.爐型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;節(jié)能型的陶以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé),化工儀器網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
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