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上海添時(shí)科學(xué)儀器有限公司

13
  • 2021

    08-17

    用 STX-100QX 金剛石曲線切割機(jī)切割炭纖維復(fù)合材料及玻璃

    用STX-100QX金剛石曲線切割機(jī)切割炭纖維復(fù)合材料及玻璃STX-100QX金剛石曲線切割機(jī)形貌如圖一所示:圖一金剛石曲線切割機(jī)形貌圖由科晶設(shè)計(jì)研發(fā)的金剛石曲線切割機(jī),是我公司*使用金剛石線對(duì)非金屬及金屬材料進(jìn)行曲線切割的設(shè)備。該設(shè)備可通過(guò)編程設(shè)置切割形狀,然后金剛石線按程序所設(shè)置的路徑行走,從而切割出各種不同的形狀。該設(shè)備有效解決了一些難加工材料曲線切割的難題,如陶瓷材料、晶體材料、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、熱電材料(如碲化鉍,碲化鉛、硅鍺合金等)、玻璃、巖樣、玉石、P
  • 2021

    08-16

    用自動(dòng)研磨機(jī)研磨高分子復(fù)合材料

    用自動(dòng)研磨機(jī)研磨高分子復(fù)合材料實(shí)驗(yàn)材料:12×12×19㎜的高分子復(fù)合材料試樣塊4塊,樣品尺寸如圖1所示;實(shí)驗(yàn)?zāi)康模簩⒏叻肿訌?fù)合材料選取一組面(兩面相對(duì))研磨并拋光。實(shí)驗(yàn)設(shè)備:科晶制造的UNIPOL-802自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)、MTI-3040加熱平臺(tái)、VGT-1620QTD超聲波清洗機(jī),實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備如圖2所示;實(shí)驗(yàn)耗材:水磨砂紙、合成革拋光墊、金剛石噴霧拋光劑、石蠟,實(shí)驗(yàn)所用耗材如圖3所示;實(shí)驗(yàn)過(guò)程:要對(duì)樣品進(jìn)行研磨首先要把樣品固定在研磨機(jī)專用載樣塊上,一般選用石蠟在載樣塊上固定樣品,石蠟的融化
  • 2021

    08-13

    檸檬酸對(duì)聚合物前驅(qū)體法制備 WO3 薄膜光電性質(zhì)的影響

    檸檬酸對(duì)聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜光電性質(zhì)的影響摘要:以偏鎢酸銨為鎢源,檸檬酸為絡(luò)合劑,聚乙二醇(PEG)為聚合物合成前驅(qū)體溶膠,并用浸漬提拉法在FTO導(dǎo)電玻璃上制備了WO3薄膜,研究配位劑檸檬酸對(duì)聚合物前驅(qū)體法制備WO3薄膜結(jié)構(gòu)和光電性質(zhì)的影響。采用X線衍射、拉曼光譜和場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡等手段研究薄膜的相組成及表面形貌,借助標(biāo)準(zhǔn)三電極體系進(jìn)行了光電化學(xué)測(cè)試,并進(jìn)一步討論了檸檬酸對(duì)WO3薄膜光電性能影響機(jī)理。結(jié)果表明:CA和W摩爾比為0,0.5,1.0和2.0條件下薄膜表面顆粒平均尺寸分別為60,
  • 2021

    08-12

    經(jīng)典實(shí)驗(yàn)-陶瓷/玻璃-使用超聲分篩機(jī)分篩粉末

    問(wèn)題來(lái)源:球磨是大多高??蒲性簻p少樣品粒徑的主流方式,但是球磨之后球與粉難于分離,且大多數(shù)粉末會(huì)產(chǎn)生團(tuán)聚,分篩時(shí)難通過(guò)篩網(wǎng)的孔洞。為此科晶推出小型超聲分篩系統(tǒng)可很好的解決以上問(wèn)題。解決辦法:用小型超聲篩分系統(tǒng),在分篩過(guò)程中加入超聲震動(dòng)。試驗(yàn)案例:超聲波分篩機(jī)分篩球研磨粉末樣品試驗(yàn)簡(jiǎn)述:將球磨后的樣品放入分篩機(jī)中,配合不同目數(shù)分篩網(wǎng),篩分樣品。第一步:分散樣品第二步:球與球之間碰撞,將粘在球上的粉料撞擊下來(lái)實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下:球磨后樣品分篩結(jié)果:分篩機(jī)篩網(wǎng)機(jī)構(gòu)介紹應(yīng)用技術(shù)總結(jié):1.分篩過(guò)程可根據(jù)需求放置
  • 2021

    08-11

    真空鍍膜技術(shù)的原理在各大行業(yè)里的應(yīng)用

    1、真空鍍膜機(jī)PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫(xiě),中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。2、真空鍍膜機(jī)PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類,相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來(lái),真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的,它已經(jīng)成為當(dāng)今的表面處理方式之一。我們通常所說(shuō)的
  • 2021

    08-10

    鍍膜機(jī)的選擇,如何判斷好的鍍膜機(jī)

    鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。產(chǎn)品鍍制膜層需求量大了,需要考慮購(gòu)買鍍膜機(jī),但國(guó)內(nèi)外鍍膜機(jī)制造商實(shí)在太多,鍍膜機(jī)對(duì)于整個(gè)產(chǎn)品的加工有重大的影響,如何選擇一個(gè)適合自己的品牌鍍膜機(jī)呢,鍍膜機(jī)選擇哪個(gè)種類好呢,下面說(shuō)下本人的一點(diǎn)拙見(jiàn)。1.首先是大小,要根據(jù)自己的產(chǎn)品來(lái)確定可能使用到的鍍膜機(jī),鍍膜機(jī)的價(jià)格和大小是有關(guān)系的,越大的鍍膜機(jī)往往價(jià)格越貴。選擇大了一會(huì)造成大材小
  • 2021

    08-09

    箱式爐使用過(guò)程中升溫較慢的主要原因

    箱式爐又名馬弗爐。適用于電力、煤炭、造紙、石化、水泥、農(nóng)牧、醫(yī)藥科研、教學(xué)等行業(yè)和部門(mén)。相對(duì)于管式爐來(lái)說(shuō)箱式爐的爐內(nèi)空間會(huì)大很多。也只有如此高溫的、腔體大的爐子才能將比較硬也比較大的材料融化??墒牵谑褂玫倪^(guò)程中有些老師會(huì)遇到爐子溫度總是升不上去或不加熱的情況,例如箱式爐設(shè)定的是10℃/min,而爐子卻1分鐘只升溫了1℃,影響實(shí)驗(yàn)無(wú)法進(jìn)行。遇到這種情況,很多老師首先想到的是等技術(shù)人員過(guò)來(lái)維修,技術(shù)人員從外地趕過(guò)來(lái)少說(shuō)需要1天時(shí)間,這樣浪費(fèi)了老師的工作時(shí)間不說(shuō),對(duì)經(jīng)濟(jì)也是一種損失。其實(shí),可以先掌握
  • 2021

    08-06

    真空鍍膜機(jī)設(shè)備如何維護(hù)

    真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機(jī)設(shè)備中的擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上,抽速就會(huì)明顯變慢,或操作失當(dāng),充入大氣,拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤(pán),將一級(jí)噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水*清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴(kuò)散泵油,并裝回機(jī)體,接好水管,裝好電爐盤(pán),便可以重新開(kāi)機(jī)。在重新開(kāi)機(jī)前,要注意檢漏工作。啟
  • 2021

    08-05

    真空鍍膜機(jī)漏氣該如何檢查

    查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機(jī)真空度的一項(xiàng)查看辦法,簡(jiǎn)稱檢漏,真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的,所以檢漏是*的。通常真空鍍膜機(jī)真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生,當(dāng)抽氣體系抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低,外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部流向壓強(qiáng)低的真空室內(nèi),形成真空度降低。在檢漏的過(guò)程中,需求留意一些問(wèn)題,才能把檢漏作業(yè)做好。*,要承認(rèn)漏氣究竟的虛漏仍是實(shí)漏,因?yàn)楣ぜY料加熱后都會(huì)在不一樣程度上發(fā)生氣體,有可能誤以為是從外部流進(jìn)的氣體,這就是虛漏,要掃除這種狀況。第二
  • 2021

    08-04

    真空管式爐維護(hù)你需要注意的方面

    真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測(cè)定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。真空管式爐維護(hù)注意點(diǎn):1、管式電阻爐在*次使用或長(zhǎng)期停用后再次使用時(shí),必須進(jìn)行一次烘爐干燥,使用時(shí)爐溫不得超過(guò)zui高溫度,以免燒毀電熱原件;2、管式電阻爐和控制器必須在相對(duì)濕度不超過(guò)85%,沒(méi)有導(dǎo)電塵埃、爆炸性氣體和能夠破壞金屬絕緣以及對(duì)電子原件有害的腐蝕性氣體的場(chǎng)所工作;3、定期檢查管式電阻爐、控制器各接線頭接觸是否良好,指示儀指針運(yùn)動(dòng)時(shí)有無(wú)卡滯現(xiàn)象,并用電位差計(jì)核
  • 2021

    08-03

    等離子鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法

    等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法,所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi),等離子鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。多弧離子鍍膜的方法,在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn),可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。等離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)
  • 2021

    08-02

    等離子鍍膜設(shè)備鍍層厚度分布均勻的重要性

    等離子鍍膜設(shè)備電沉積時(shí)總希望等離子鍍膜設(shè)備鍍層厚度在工件上的分布越均勻越好。當(dāng)工件上沉積的總金屬量相同時(shí),若厚度分布不均勻,則會(huì)帶來(lái)很多壞處:(1)對(duì)于陽(yáng)極性鍍層,等離子鍍膜設(shè)備鍍層薄處經(jīng)不起犧牲腐蝕會(huì)先使基體產(chǎn)生銹蝕。而一個(gè)制件部分銹蝕后則已不合格,造成了鍍層過(guò)厚處金屬的浪費(fèi)。若為保證zui薄處不生銹,只能加大平均厚度,導(dǎo)致電鍍成本增大。(2)對(duì)于陰極性鍍層,等離子鍍膜設(shè)備薄處鍍層孔隙率高,很易產(chǎn)生點(diǎn)狀銹蝕,繼而銹點(diǎn)加大,形成連片銹蝕。與陽(yáng)極性鍍層相比,陰極性鍍層薄處銹蝕更快。對(duì)于局部防滲氮、
  • 2021

    07-30

    高真空蒸發(fā)鍍膜儀靶材厚度的光密度檢測(cè)

    一般來(lái)說(shuō)高真空蒸發(fā)鍍膜儀就是將靶材在真空的環(huán)境下加以高溫,使其以原子團(tuán)或者離子的形式被蒸發(fā)出來(lái),然后在將基片防于真空倉(cāng)中讓這些原子團(tuán)或離子沉淀在基片之上,在沉淀的過(guò)程中我們還能通過(guò)我們的需要來(lái)改變靶材的沉淀情況。在線光密度檢測(cè)儀能真空鍍膜生產(chǎn)的過(guò)程中進(jìn)行鍍膜厚均勻性的監(jiān)測(cè);選擇真空鍍膜就是想要在基片上均勻的鍍上膜,靶材厚度的均勻性就決定了鍍膜的品質(zhì),鍍膜生產(chǎn)過(guò)程中我們可以使用透光率光密度檢測(cè)儀來(lái)進(jìn)行在線測(cè)試,通過(guò)光譜里的紅外線透過(guò)率、紫外線透過(guò)率以及可見(jiàn)光穿透率來(lái)進(jìn)行監(jiān)控感應(yīng)鍍膜的均勻性。那么具
  • 2021

    07-29

    如何檢查高真空蒸發(fā)鍍膜儀漏氣

    高真空蒸發(fā)鍍膜儀在實(shí)驗(yàn)室制備金屬膜、有機(jī)膜等方面有著廣泛的應(yīng)用。要想保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀的正常運(yùn)行,就必須保證高真空蒸發(fā)鍍膜儀沒(méi)有漏氣現(xiàn)象?,F(xiàn)在成越科儀就給大家介紹一下檢查高真空蒸發(fā)鍍膜儀是否漏氣的方法。查看漏氣狀況是確保高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空度的一項(xiàng)查看辦法,簡(jiǎn)稱檢漏,真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的,所以檢漏是*的。通常高真空蒸發(fā)鍍膜儀真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生,當(dāng)抽氣體系抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低,外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部流向壓強(qiáng)低的真空室內(nèi)
  • 2021

    07-29

    造成熱噴涂鍍膜設(shè)備的噴嘴失效的原因有哪些

    下面是幾種能夠造成熱噴涂鍍膜設(shè)備噴嘴失效的原因,希望對(duì)大家有所幫助。1、溫度:噴嘴在高溫或異常溫度的環(huán)境下長(zhǎng)時(shí)間的工作工作,會(huì)導(dǎo)致噴嘴材料軟化進(jìn)而損壞。2、阻塞:化學(xué)材料和雜質(zhì)在噴嘴內(nèi)的堆積很有可能造成噴嘴阻塞。極大地影響噴嘴的噴霧形狀,從而影響噴淋壓力。3、意外損害:不正確的使用方法和不能及時(shí)進(jìn)行保養(yǎng)是導(dǎo)致噴嘴意外損害的zui主要原因。盡管噴嘴口通常設(shè)計(jì)成凹式,但扇形噴嘴的偏移結(jié)構(gòu)卻很容易受到損害。4、侵蝕:高流速的液體經(jīng)過(guò)噴嘴孔時(shí),會(huì)對(duì)噴嘴孔產(chǎn)生很強(qiáng)侵蝕,會(huì)造成噴嘴壓力降低、噴霧狀態(tài)變得無(wú)規(guī)
  • 2021

    07-29

    高真空蒸發(fā)鍍膜儀正常工作下的環(huán)境要求

    高真空蒸發(fā)鍍膜儀,特別適合蒸鍍一些對(duì)氧較敏感的金屬膜,如Ti,Al和Au等,也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個(gè)蒸鍍加熱頭.對(duì)于實(shí)驗(yàn)研究,這是一款鍍膜效果理想并且性價(jià)比較高的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。高真空蒸發(fā)鍍膜儀要在真空條件下工作,真空對(duì)環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。這兩個(gè)方面是有密切的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗,又直接影響設(shè)備的性能
  • 2021

    07-29

    小型真空管式爐清洗方法

    真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測(cè)定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。由于真空管式爐廣泛用于耐火材料、電子、陶瓷、冶金、機(jī)器、建材、特種材料、新材料開(kāi)發(fā)等領(lǐng)域的試驗(yàn)和生產(chǎn)中,避免不了產(chǎn)生爐管結(jié)碳渣或者結(jié)焦等情況,面對(duì)此問(wèn)題窯爐生產(chǎn)廠家通常的清洗方法有物理清洗法和化學(xué)清洗法2種。物理清洗采用機(jī)械力將管道內(nèi)積存的碳渣擊碎,再用高速氣流將碎渣吹出,使管道暢通。化學(xué)清洗是通過(guò)化學(xué)反應(yīng)破壞碳渣的結(jié)構(gòu)或者與碳渣發(fā)生反應(yīng),達(dá)到清渣的目的。由于管式爐的特
  • 2021

    07-28

    1200℃開(kāi)啟式管式爐*的特點(diǎn)

    1200℃開(kāi)啟式管式爐以新型鐵鉻鋁高溫電阻絲或硅鉬棒為發(fā)熱元件,測(cè)溫元件采用K分度熱電偶,控溫方式有自動(dòng)恒溫和程序控溫兩種。采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu),爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。內(nèi)爐膛表面涂有美國(guó)進(jìn)口的1750度高溫氧化鋁涂層可以提高反射率及設(shè)備的加熱效率,同時(shí)也可以延長(zhǎng)儀器的使用壽命。1200℃開(kāi)啟式管式爐采用新型隔熱保溫材料,具有測(cè)溫精度高、控溫準(zhǔn)確、熱導(dǎo)率低、節(jié)能、美觀大方等特點(diǎn),供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研院所等單位用于金屬、非金屬、合金、陶瓷等材料的高溫?zé)Y(jié)
  • 2021

    07-28

    3.4升1400℃箱式爐的安全操作

    3.4升1400℃箱式爐采用新型保溫材料。體積小、重量輕、保溫效果好、升溫速度快。適用于電力、煤炭、造紙、石化、水泥、農(nóng)牧、醫(yī)藥科研、教學(xué)等行業(yè)和部門(mén),操作簡(jiǎn)單、維修方便。3.4升1400℃箱式爐的安全操作1、清除爐內(nèi)鐵屑,清掃爐底板,以免鐵屑落于電阻絲上造成短路損壞。2、根據(jù)工件的圖紙要求,確定合理的工藝范圍。按時(shí)升溫,保證出爐操作,經(jīng)常檢查儀表溫度并進(jìn)行校準(zhǔn),防止誤操作。3、為保證爐溫,不能隨便打開(kāi)箱式爐爐門(mén),檢查爐內(nèi)情況應(yīng)從爐門(mén)孔中觀察。2、入箱式爐的工件應(yīng)不超過(guò)爐底板zui大載荷量,裝卸
  • 2021

    07-28

    小型真空管式爐優(yōu)點(diǎn)之多,缺點(diǎn)也有

    小型真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測(cè)定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。采用先進(jìn)技術(shù)研制開(kāi)發(fā)的高性能高節(jié)能的新型電爐,有單管、雙管、臥式、可開(kāi)啟式、立式、單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等多種管式爐型。具有安全可靠、操作簡(jiǎn)單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。真空管式爐優(yōu)點(diǎn)之多,缺點(diǎn)也有,不過(guò)相對(duì)于其優(yōu)點(diǎn)繁多,缺點(diǎn)似乎沒(méi)那么重要了。小型真空管式爐優(yōu)點(diǎn):1.工藝成熟;2.爐型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單;節(jié)能型的陶
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