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不同氣體和壓力對真空漏孔漏率的影響2019/03/15
針對目前大多數(shù)標準漏孔的漏率都是在He和入口壓力為100kPa下的漏率，采用定容變壓法校準了銘牌漏率為2.3×10-6Pa·m3/s的標準真空漏孔在使用H2、He、D2三種氣體時，在不同入口壓力下的漏率。預先對系統(tǒng)進行了加熱除氣后計算了系統(tǒng)本底漏率大小，并探討了本底漏率對校準漏孔漏率的影響。結合粘滯流-分子流理論研究了不同氣體和漏孔入口壓力對漏孔漏率的影響。近年來，真空漏孔越來越多地應用于航空航天、電子工業(yè)、電力工業(yè)及制冷工業(yè)等領域。真空漏孔是向真空端（出口壓力小于1000Pa）提供穩(wěn)定氣體流量
石墨烯相關研究炙手可熱 中國石墨烯研究能否再添一把火?2019/02/25
*近日英國訪問之行，所到之處皆為焦點。敏銳的投資者更是從*參觀曼徹斯特大學英國國家石墨烯研究所的行程中，嗅到了石墨烯發(fā)展的機遇。從該校安德烈·海姆和康斯坦丁·諾沃肖洛夫于2004年分離出石墨烯并獲得2010年諾貝爾物理學獎至今，相關研究已在炙手可熱，此次*該校之行是否會讓中英相關領域的合作研究迎來新起點，為中國石墨烯研究再添一把火呢?期待深化合作據(jù)曼徹斯特大學材料學院納米材料學博士亞拉文·維佳亞拉哈凡介紹，目前，該校石墨烯領域研究人員已超過200名，論文發(fā)表與引用率也一直處于先進地位。曼徹斯特大
合金膜的濺射沉積方法2019/02/25
為使濺射系統(tǒng)所用靶的數(shù)量減少，盡量用一個靶就能濺射沉積制取符合成分及性能要求的合金薄膜，可以采用合金靶、復合鑲嵌靶、以及采用多靶濺射等。一般說來，在放電穩(wěn)定狀態(tài)下，按照靶的成分，各種構成原子分別受到濺射作用，濺射鍍膜比真空蒸鍍和離子鍍的一個*之處在于:膜層的組分和靶的組分差別較小，而且鍍層組分穩(wěn)定。不過，在有些情況下，由于不同組成元素的選擇濺射現(xiàn)象、膜層的反濺射率以及附著力不同，會引起膜層和靶的成分有較大的差別。使用這種合金靶，為了制取確定組分的膜，除了根據(jù)實驗配制特定配比的靶并盡量降低靶的溫度
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